Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9236969 à vendre en France
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ID: 9236969
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1998
PECVD System, 8"
Process: Passivation
Chamber type: DLH
CIM Linked
Main frame
Load lock
SMIF System: ASYST ARM-2200 V111S
Handler system: Robot assembly
Process chamber:
(3) CVD Deposition chambers A, B & C
(3) Primary generators
(3) RF2 Generators & matches
(4) Ebara pumps
Heat exchanger
Mini SBC board
SBC Board
SEI Board
(2) AI Boards
(2) AO Boards
VGA Board
(4) Stepper driver boards
(2) Digital I/O boards
Buffer I/O board
(2) Optical sensor boards
(4) Chopper driver boards
(3) Baratrons
LAMDA Power supply
Hard Disk Drive (HDD)
Wiring distribution board
Pneumatic board
Loader interconnect board
(2) TC Gauge boards
+12V DC Power supply
+15V DC Power supply
-15V DC Power supply
AI MUX Board
(3) RF Generators
Controller distribution board
Encoder interface board
System electronic back plane
Robot blade assembly
Facility:
A10S Loadlock pump
A70W Process pump
Incoming power: 208 VAC
Heat exchanger temperature set point: 65
Buffer:
LPT / Indexer: ARM-2200 H112S
Center finder
Storage elevator: (8) Slots
LL Robot type: Metal
Load lock actuator: IO Door
Chamber actuator: 0010-70162
CDA Pressure for buffer: 60 psi
Process chamber:
RF 1 Generator: ENI OEM-12B
RF 2 Generator: RFPP 7520572050
RF Match: AMAT / APPLIED MATERIALS Automatch 0010-09750
Pressure manometer: MKS 10T (122BA-001000EB-S)
Throttle valve / PCV Model: VEXTA PX245-02AA-C4
TC Part number: 3310-01074
Chuck type: P-Chuck
Chuck part number: 0010-38437
Process temperature: 400°C
MFC Gases:
C2F6: 10 SLM
SIH4: 3000scc
NH3: 300scc
N2: 10 SLM
N20: 3000 SCC
N20 (G): 200 SCCM
PH3: 300 SCC
DPA Included
Endpoint: 0190-09472
CDA Pressure for chamber: 60 psi
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur utilisé pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il utilise une technologie de pointe pour fournir un contrôle thermique précis et une plate-forme pour le dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Le réacteur est conçu pour assurer des températures uniformes et réduire la non-uniformité tout au long de la croissance du matériau ou du dispositif. AMAT P-5000 est un réacteur monobloc qui comprend trois caractéristiques clés : uniformité, régulation de la température et flexibilité du substrat. Le réacteur se compose de plusieurs composants : une chambre à quartz, un support de suscepteur, un équipement de commande, un élément chauffant et un système de refroidissement. La chambre à quartz permet l'oxydation ou le dépôt d'un film sur le substrat dans des conditions contrôlées. Le support de suscepteur maintient la plaquette pendant le traitement, et est conçu pour assurer une répartition uniforme de la température. L'unité de contrôle permet un contrôle précis de la température et une plate-forme pour CVD. L'élément chauffant est conçu pour assurer une température uniforme sur l'ensemble de la plaquette. La machine de refroidissement est utilisée pour réduire la température du substrat et permettre la stabilité du procédé. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 présente un large éventail d'avantages, tels que des performances améliorées, une répétabilité élevée, un débit accru et des rendements améliorés. Il est également capable de réaliser des dispositifs à haute température, avec une excellente homogénéité et répétabilité. En outre, P5000 réacteur est idéal pour le collage de plaquettes, car il assure une température très uniforme et une plus grande précision dans la manipulation des liaisons. En conclusion, le réacteur d'AMAT P5000 est une composante cruciale du processus de fabrication de semi-conducteur. Sa capacité à fournir des températures uniformes et à réduire la non-uniformité tout au long de la croissance du matériau ou du dispositif le rend extrêmement utile et rentable. À mesure que la technologie progresse, on s'attend à ce que le réacteur P 5000 devienne encore plus avancé et plus efficace dans la production de dispositifs semi-conducteurs.
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