Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9236969 à vendre en France

ID: 9236969
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1998
PECVD System, 8" Process: Passivation Chamber type: DLH CIM Linked Main frame Load lock SMIF System: ASYST ARM-2200 V111S Handler system: Robot assembly Process chamber: (3) CVD Deposition chambers A, B & C (3) Primary generators (3) RF2 Generators & matches (4) Ebara pumps Heat exchanger Mini SBC board SBC Board SEI Board (2) AI Boards (2) AO Boards VGA Board (4) Stepper driver boards (2) Digital I/O boards Buffer I/O board (2) Optical sensor boards (4) Chopper driver boards (3) Baratrons LAMDA Power supply Hard Disk Drive (HDD) Wiring distribution board Pneumatic board Loader interconnect board (2) TC Gauge boards +12V DC Power supply +15V DC Power supply -15V DC Power supply AI MUX Board (3) RF Generators Controller distribution board Encoder interface board System electronic back plane Robot blade assembly Facility: A10S Loadlock pump A70W Process pump Incoming power: 208 VAC Heat exchanger temperature set point: 65 Buffer: LPT / Indexer: ARM-2200 H112S Center finder Storage elevator: (8) Slots LL Robot type: Metal Load lock actuator: IO Door Chamber actuator: 0010-70162 CDA Pressure for buffer: 60 psi Process chamber: RF 1 Generator: ENI OEM-12B RF 2 Generator: RFPP 7520572050 RF Match: AMAT / APPLIED MATERIALS Automatch 0010-09750 Pressure manometer: MKS 10T (122BA-001000EB-S) Throttle valve / PCV Model: VEXTA PX245-02AA-C4 TC Part number: 3310-01074 Chuck type: P-Chuck Chuck part number: 0010-38437 Process temperature: 400°C MFC Gases: C2F6: 10 SLM SIH4: 3000scc NH3: 300scc N2: 10 SLM N20: 3000 SCC N20 (G): 200 SCCM PH3: 300 SCC DPA Included Endpoint: 0190-09472 CDA Pressure for chamber: 60 psi 1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur utilisé pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il utilise une technologie de pointe pour fournir un contrôle thermique précis et une plate-forme pour le dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Le réacteur est conçu pour assurer des températures uniformes et réduire la non-uniformité tout au long de la croissance du matériau ou du dispositif. AMAT P-5000 est un réacteur monobloc qui comprend trois caractéristiques clés : uniformité, régulation de la température et flexibilité du substrat. Le réacteur se compose de plusieurs composants : une chambre à quartz, un support de suscepteur, un équipement de commande, un élément chauffant et un système de refroidissement. La chambre à quartz permet l'oxydation ou le dépôt d'un film sur le substrat dans des conditions contrôlées. Le support de suscepteur maintient la plaquette pendant le traitement, et est conçu pour assurer une répartition uniforme de la température. L'unité de contrôle permet un contrôle précis de la température et une plate-forme pour CVD. L'élément chauffant est conçu pour assurer une température uniforme sur l'ensemble de la plaquette. La machine de refroidissement est utilisée pour réduire la température du substrat et permettre la stabilité du procédé. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 présente un large éventail d'avantages, tels que des performances améliorées, une répétabilité élevée, un débit accru et des rendements améliorés. Il est également capable de réaliser des dispositifs à haute température, avec une excellente homogénéité et répétabilité. En outre, P5000 réacteur est idéal pour le collage de plaquettes, car il assure une température très uniforme et une plus grande précision dans la manipulation des liaisons. En conclusion, le réacteur d'AMAT P5000 est une composante cruciale du processus de fabrication de semi-conducteur. Sa capacité à fournir des températures uniformes et à réduire la non-uniformité tout au long de la croissance du matériau ou du dispositif le rend extrêmement utile et rentable. À mesure que la technologie progresse, on s'attend à ce que le réacteur P 5000 devienne encore plus avancé et plus efficace dans la production de dispositifs semi-conducteurs.
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