Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9237058 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur, ou chambre de dépôt, qui donne aux scientifiques et aux ingénieurs la capacité de manipuler, déposer et faire pousser des couches minces de matériaux sur une variété de substrats dans une atmosphère contrôlée. C'est un outil de traitement à basse température qui utilise la technologie PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), qui permet d'obtenir des taux de dépôt plus rapides avec une plus grande uniformité et une meilleure couverture par étapes - par rapport aux méthodes traditionnelles de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). AMAT P-5000 est conçu pour être un système facile à utiliser et efficace, avec une gamme viable de processus qui permettent aux clients de déposer du matériel sur des substrats dans diverses conditions, ainsi que simplement nettoyer et recuit les surfaces existantes. Le réacteur peut être utilisé pour le dépôt de divers matériaux, dont le nitrure de silicium, les oxydes diélectriques et le carbone amorphe, ainsi que le dépôt de silicium, de germanium et d'autres métaux. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est composé de plusieurs composants clés qui lui permettent de contrôler et de déposer avec précision des couches minces de matériau avec une grande précision. Ces composants comprennent l'enceinte éventée et la chambre à vide, la table de substrat avec support, la source de dépôt et la vanne de procédé automatisée. L'enceinte maintient la chambre sous vide, permettant un environnement précis et stable pour le processus de dépôt. Le porte-substrat maintient solidement le substrat en place pendant le processus, et la source de dépôt crée un plasma à haute énergie à partir des molécules de gaz inerte, qui est nécessaire pour déposer les couches minces de matériau sur le substrat, tandis que la vanne de traitement automatisée peut s'ouvrir et se fermer pour permettre aux matériaux d'entrer et aux gaz d'échappement qui sont générés pendant le processus. P 5000 est conçu pour assurer un processus de dépôt précis et de haute qualité, mais aussi être très efficace. La chambre de dépôt est équipée d'un système efficace de contrôle thermique, permettant aux scientifiques de minimiser la charge thermique sur le substrat pendant le dépôt. De plus, le système est conçu pour minimiser la consommation de gaz et d'énergie, ce qui se traduit par une plus grande efficacité et des économies. Dans l'ensemble, APPLIED MATERIALS P5000 est une chambre de dépôt polyvalente, efficace et facile à utiliser qui permet aux scientifiques et aux ingénieurs de déposer des couches minces de matériaux sur divers substrats avec précision et précision. Ses capacités de traitement à basse température, ainsi que les fonctions d'utilisation efficace de l'énergie et du gaz en font un outil précieux pour la recherche, le développement et les applications de fabrication.