Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9238731 à vendre en France

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ID: 9238731
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1990
CVD System, 8" Process: SION Process chamber: Chamber A, B & D: SION Chamber version: Chamber A, B & D: Standard RF Generator type: Chamber A, B & D: OEM-12B Dry pump type: Chamber A, B, D & L/L: EDWARDS QDP40 / QMB250 Throttle valve type: Chamber A, B & D: Non heated VME System: 20 Slots CPU: Synergy Video: VGA SEI (2) AI (2) AO (4) DI/DO (4) Steppers Hard Disk Drive (HDD) Floppy Disk Drive (FDD), 3.5" Process kit type: Chamber A, B & D: SIN Manometer type: Chamber A: MKS 626A-21512 Chamber B & D: MKS 122B 11441S RF Matching box type: Chamber A, B & D: 0010-09750D DR System electronic type: (2) TC Gauges Buffer I/O AI MUX (2) OPTO (4) Choppers +12VPS +15VPS -15VPS Storage elevator: 8 Slots Cassette handler: Phase III, Top clamp Robot: Phase III Blade: Phase III I/O Wafer sensor Load lock purge Heat exchanger: AMAT0: Connect to chamber A, B & D: Wall / LID Main frame front type: Through-the-wall Standard remote frame TC Gauge type: Chamber-A Rough: VCR Chamber-B Rough: VCR Chamber-D Rough: VCR L/L Rough: VCR L/L Chamber: VCR Lamp module type: Chamber A, B & D: STD 0010-09337 Mini-con Magnet driver type: Chamber A, B & D: P/N 0015-09091 Gas panel type: (28) Gases MFC Type (Main): Chamber / Flow Gas / Flow size / Calibration gas / Maker / Model B / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400 B / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400 B / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400 B / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400 A / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400 A / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400 A / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400 A / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400 D / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400 D / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400 D / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400 D / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400 MFC Type (Remote): Chamber / Flow Gas / Flow size / Calibration gas / Maker / Model B / N2O / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400 B / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400 A / N2O / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400 A / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400 D / N2O / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400 D / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400 1990 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est une plate-forme d'utilisation finale performante pour la production de matériaux semi-conducteurs avancés, y compris des empilements simples et doubles diélectriques, des couches de silicium contraint, des portes métalliques et d'autres couches de dispositifs avancés. Il s'agit d'une plate-forme « tout-en-un » pour la fabrication de semi-conducteurs, conçue pour fournir aux clients des solutions rentables et efficaces pour la fabrication de structures de dispositifs complexes. En termes de spécifications techniques, AMAT P-5000 est un réacteur par lots à haute température à base de plasma. Il est équipé d'un tableau de commande avancé, qui permet un réglage discret et offre une capacité de processus en boucle fermée pour assurer la meilleure qualité de formation de couche pendant le dépôt. Ce contrôleur comprend une interface utilisateur améliorée qui fournit aux opérateurs les outils nécessaires pour modifier les paramètres de processus rapidement et avec précision pour répondre aux exigences spécifiques des appareils. Au cœur des MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est une source de plasma source de filament chaud, qui permet un dépôt efficace et peu coûteux de couches métalliques, jusqu'à 9200 angströms d'épaisseur. La source de filament chaud est capable de produire des températures allant jusqu'à 1000 ° C et peut être ajustée pour produire des couches monocristallines ou polycristallines. De plus, sa fonction in-situ permet un réglage et une élimination instantanés des sites de nucléation de la surface de la plaquette. AMAT P5000 dispose également d'un équipement « rideau d'air » compatible salle blanche pour assurer un environnement pratiquement exempt de particules pour la production. Le rideau d'air est doté d'un système de filtration à plusieurs étages, conçu pour réduire la contamination et minimiser les impacts atmosphériques de particules. Cette unité contribue également à réduire la charge de particules dans la chambre de traitement, car elle empêche les particules d'entrer dans l'environnement du procédé. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est également équipé d'une machine de diagnostic de haut niveau, qui permet aux opérateurs de surveiller de près et de détecter les défauts dans le processus de dépôt. Cet outil comprend des logiciels avancés permettant aux utilisateurs de régler et de gérer le processus de dépôt rapidement et facilement. En outre, P-5000 comprend un certain nombre de caractéristiques de sécurité et des améliorations de conception innovantes, telles que des vannes d'arrêt thermique, des joints internes et des capteurs de pression, pour assurer le plus haut niveau de sécurité et de protocole de l'opérateur. En conclusion, le P 5000 est un réacteur puissant, fiable et très efficace, conçu spécifiquement pour répondre aux exigences de la fabrication moderne de semi-conducteurs. Son tableau de commande avancé et son équipement de rideau d'air compatible salle blanche garantissent un environnement pratiquement exempt de particules, avec des états de processus précis et reproductibles qui peuvent être étroitement surveillés et réglés rapidement et avec précision. AMAT P 5000 est un excellent choix pour ceux qui cherchent à produire des structures de dispositifs complexes d'une manière rentable et efficace.
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