Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9248920 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) conçu pour la croissance épitaxiale d'applications électroniques et optoélectroniques. Il offre un dépôt rapide de couches épitaxiales de haute qualité de matériaux multiples sur une large gamme de substrats. Le réacteur dispose d'un équipement à plaques parallèles de 150 mm, qui est adaptable à d'autres dimensions. Le réacteur AMAT P-5000 comporte quatre plasmas de procédé distincts : plasma à couplage inductif (ICP), source de courant continu (DC) ou de courant continu pulsé (PDC). Il est capable de maintenir des plasmas entre 10 et 100 millitorr. Il a été optimisé pour les procédés à faible puissance et à haut rendement et offre un large éventail de pressions de procédé et de taux de dépôt pour l'épitaxie à haut débit. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le système P 5000 comprend des modules avancés de livraison de gaz et une chambre inter-réacteur flexible. L'unité est également équipée d'une variété d'outils de diagnostic tels que la surveillance de la pression en chambre en temps réel ; surveillance des taux de dépôt in situ et en temps réel ; puissance variable de la source ; régulation de la température du substrat avec refroidissement ; détection automatisée des paramètres ; et spectroscopie multi-longueurs d'onde intégrée. Tous les outils de diagnostic sont conçus pour réduire le temps de processus en optimisant le processus basé sur le contrôle en temps réel. La machine AMAT P 5000 offre également un superbe profil d'uniformité de température sur toute la zone du substrat. Ceci permet un dépôt homogène en couche mince et de meilleurs rendements. Le réacteur est optimisé pour être utilisé avec des procédés à base d'ammoniac ainsi que d'autres produits chimiques. L'outil est conçu pour faciliter l'utilisation et les opérations à haut débit. Il est facile à configurer et à calibrer, avec des diagnostics automatisés et des recettes qui permettent aux utilisateurs de sélectionner rapidement des processus et des paramètres réglables. P5000 actif est mis en place pour la compatibilité avec les logiciels de contrôle basés sur des modèles et les logiciels de visualisation de données. En conclusion, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est un modèle avancé de PECVD qui a été optimisé pour les procédés à faible puissance et à haut rendement. Il est adapté à diverses applications, le tout avec l'assurance d'un dépôt en couches minces de haute qualité, l'uniformité, et la fiabilité. Il est également facile à configurer et à calibrer, ainsi que d'autres options de programmation avancées pour une précision maximale.