Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9255615 à vendre en France

ID: 9255615
Taille de la plaquette: 6"
System, 6" (2) CVD Chambers Etch chamber.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Ion Implanter est un implanteur à haut courant capable d'implanter à haut débit des espèces dopantes de grande gamme dans de grands substrats. Il est conçu avec un amplificateur 4-Megawatt et est capable de générer des fréquences Implant Gun de 1000 Hz à 10 kHz, fournissant une uniformité de dose de +/ − 0,5 %. Ceci permet la production de dopants très homogènes sans variations spatiales. AMAT P-5000 possède une capacité d'implantation exceptionnelle pour les procédés semi-conducteurs, y compris la source/drain, la grille et le siliciure. Sa gestion améliorée des faisceaux fournit une précision similaire à celle des faisceaux d'ions, ce qui se traduit par une pulvérisation minimale, un meilleur contrôle des processus et un débit plus élevé. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le P 5000 utilise un pistolet suffisamment grand pour injecter des substrats semi-transparents d'une largeur maximale de 8 po. Il dispose d'un amplificateur de 4 millions de volts qui peut être utilisé pour alimenter le canon jusqu'à 2000 ampères. Cette intégration du faisceau d'ions neutralisés avec un fort courant de faisceau minimise la taille du faisceau, les effets de jante et l'uniformité. La source de plasma intégrée optimise également l'implantation de nouveaux matériaux tels que SiGe, composés III-V, etc... L'implant AMAT P5000ion est l'un des outils les plus efficaces pour le traitement des semi-conducteurs et des MEMS. Cet implant est conçu pour être utilisé dans un environnement de production à haut débit où l'uniformité et la précision sont de la plus haute importance. Il est capable d'émettre des faisceaux qui peuvent être facilement ajustés pour une grande variété d'applications. Sa source de plasma intégrée et son amplificateur 4-Megawatt lui donnent la capacité d'affecter de manière uniforme le matériau avec une grande variété d'espèces dopantes. En outre, sa capacité à haut débit, une flexibilité énergétique accrue, une meilleure gestion des faisceaux et un contrôle de la taille des faisceaux en font un outil idéal pour la fabrication des puces.
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