Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9255616 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un type de réacteur conçu pour traiter des matériaux liquides dans un environnement à haute température. Il est couramment utilisé pour déposer des couches minces de différents matériaux, tels que le métal, le carbone diamant et le bore. Elle est particulièrement utile pour le contrôle des procédés dans les applications de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). AMAT P-5000 est un réacteur à charge verticale, à dépôt thermique chimique en phase vapeur (CVD), ce qui signifie qu'il est capable à la fois de dépôts thermiques chimiques et de processus à paroi froide. Il s'agit d'une chambre PECVD (plasma-enhanced CVD), qui a la capacité de déposer des couches très minces de matériaux sur le substrat cible. Il dispose d'une grande chambre sphérique avec une fenêtre de processus, qui permet au substrat cible d'être exposé à divers gaz dans un environnement contrôlé. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le P 5000 est également très fiable et efficace, ce qui en fait un excellent choix pour les applications CVD. Le réacteur est alimenté par un générateur RF (Radio Frequency) de 30 KW. Il dispose d'un élément de chauffage avancé et économe en énergie et de thermocouples doubles pour la surveillance et le contrôle de la température. La chambre de traitement principale a des options de puissance RF réglables ou deux sorties analogiques distinctes pour faire varier la pression et les rapports de gaz de procédé. P 5000 est également équipé d'un certain nombre de fonctionnalités conviviales, telles qu'une minuterie numérique, une fonction de démarrage/arrêt manuel et une minuterie programmable. RÉACTEUR AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est capable de fonctionner à des températures allant jusqu'à 1000 ° C et des pressions aussi faibles que 100 Torr. Il est également équipé d'un système de chargement d'échantillons, qui charge automatiquement jusqu'à 8 échantillons. Il existe également un positionneur intégré qui permet de déplacer l'échantillon selon les recettes du processus. P-5000 est capable de produire des couches minces de haute qualité, avec une bonne uniformité, des taux de dépôt élevés, de faibles émissions de particules, et d'excellentes propriétés de surface et de structure. En conclusion, APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur CVD puissant et fiable. Il est très efficace, avec une source d'énergie RF réglable, un élément chauffant avancé, des thermocouples doubles, des systèmes de chargement d'échantillons et un minuterie programmable. Il est idéal pour les applications en couches minces, offrant une qualité optimale des couches minces et un excellent contrôle des processus.