Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9255617 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un outil à haut rendement utilisé pour créer des circuits intégrés à partir de plaquettes semi-conductrices prédimensionnées. Ce réacteur fait partie de la gamme de produits de la société Substrates Solutions (ASL) et présente un équipement rentable et performant pour le dépôt de matériaux tels que les métaux, les interconnexions, les films diélectriques et semi-conducteurs. Le réacteur AMAT P-5000 est l'outil de procédé le plus avancé d'AMAT. Sa principale cible de fabrication est l'industrie des semi-conducteurs, qui nécessite des outils capables d'offrir des performances, un débit et une précision élevés. Par rapport aux autres procédés DES MATÉRIAUX APPLIQUÉS, le réacteur P 5000 est conçu pour avoir un débit plus élevé et une productivité améliorée. Le réacteur peut supporter un large éventail de temps de processus, de pressions de chambre et de températures de processus. Il a une vitesse de traitement maximale de 2 Mbps, un système de contrôle de pression intégré et une unité de gestion thermique avancée. La conception unique de la chambre amovible offre une accessibilité facile à la chambre de processus pour un entretien et un nettoyage faciles. La technologie avancée du réacteur AMAT P5000 comprend une meilleure uniformité des films, une excellente adhérence du substrat, des valeurs réduites d'arrachement et des niveaux de contraintes plus faibles. Sa machine de métrologie intégrée permet une surveillance in situ des paramètres de dépôt ainsi que des performances du procédé. Cela permet de s'assurer que les processus fonctionnent comme prévu et que la qualité des produits est maintenue. Le dispositif prend en charge une variété de technologies et de procédés, dont l'ALD, le CVD, le PECVD, le CVD à pression atmosphérique, le traitement thermique rapide et le dépôt physique en phase vapeur. Pour assurer une performance optimale et la stabilité du procédé, le réacteur peut être équipé de la technologie AMAT/APPLIED MATERIALS Traitement sous-ambiant et contrôle de la température sous-ambiante. Le réacteur AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est conçu pour répondre aux exigences strictes de l'industrie des semi-conducteurs. Il est équipé d'une puissance d'outil ininterrompue et de ports de chargement, permettant une production rapide de dispositifs avec un temps d'arrêt minimal. La chambre peut également être refroidie à des températures inférieures à -140 ° C pour une stabilité supplémentaire du procédé. Dans l'ensemble, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est un outil perfectionné et sophistiqué. Il fournit une solution fiable, précise et de haute sortie pour la création de circuits intégrés à partir de plaquettes semi-conductrices prédimensionnées, ce qui en fait un dispositif essentiel pour toute installation de fabrication de semi-conducteurs.