Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9255618 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement de procédé sous vide multi-chambres et multi-étages conçu pour des applications semi-conductrices ultra-performantes telles que des structures de dispositifs avancées et des emballages avancés. AMAT P-5000 est un système multi-chambres conçu pour contrôler avec précision les températures et les gaz dans la gamme des étapes de processus sous vide nécessaires à ces applications. Il dispose d'un design à huit chambres avec chambre principale, chambre de blindage et chambre de processus et quatre chambres pré-nettoyées. La chambre principale dispose d'une plaque de base avec des tubes réactifs préinstallés, tandis que la chambre de blindage est équipée d'un four à plus haute température pour fournir une protection thermique supplémentaire pendant le processus. La chambre de procédé comprend trois sources d'équipement de dépôt : une source hyperfréquence ; une source de résonance électron-cyclotron ; et une source de chambre de dérive. L'unité comprend des systèmes avancés d'intelligence des processus et de contrôle intégré ainsi que divers systèmes de sécurité et de surveillance. Le logiciel d'intelligence de processus est utilisé pour permettre l'amorçage automatisé de recettes de processus optimisées, tandis que le processus intégré et les systèmes de surveillance de la sécurité contribuent à maintenir une efficacité et des performances maximales. En outre, la machine dispose d'une interface d'écran tactile qui permet de surveiller et de contrôler les niveaux de puissance, les paramètres plasmatiques, les températures et autres exigences nécessaires au processus. L'outil est conçu pour traiter des processus découplés pour la production de sub-Ånm, ainsi que des processus impliquant des plaquettes très tranchées avec des caractéristiques inférieures à 50nm. Il est conçu pour exécuter des combinaisons complexes de double composition et de dépôt à double couche ainsi que des étapes séquentielles de gravure et de dépôt à très basse température sans recirculation sur plusieurs étapes. En plus des caractéristiques ci-dessus, APPLIED MATERIALS P 5000 utilise plusieurs technologies innovantes telles qu'une excitation de source RF propriétaire, une source de faisceau d'ions avancée, géométrie de chambre avancée et optique de mouvement. Ces technologies permettent d'atteindre une grande vitesse et une uniformité de revêtement et de traitement. P-5000 offre également un aménagement à deux niveaux pour permettre une excellente accessibilité et maintenance. Dans l'ensemble, APPLIED MATERIALS P-5000 est un outil de procédé sous vide multi-chambres et multi-étages spécialement conçu pour des applications semi-conductrices ultra-performantes. Il comprend des systèmes avancés d'intelligence de processus et de contrôle intégré, divers systèmes de sécurité et de surveillance, et une installation innovante à double niveau. Grâce à sa technologie de pointe, le modèle est en mesure de fournir des vitesses étonnantes et une uniformité pour le revêtement et la fabrication d'applications de production de semi-conducteurs très avancées.