Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9256416 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur est une chambre de dépôt de plasma hautement efficace et à la fine pointe de la technologie, conçue pour fournir des techniques d'interface critiques et des capacités de traitement dans l'environnement de production industrielle. Cet outil a été développé pour offrir une grande variété de possibilités de processus au sein d'une conception robuste qui permet une configuration rapide et des résultats de dépôt haute performance reproductibles. Le réacteur AMAT P-5000 dispose d'une chambre à vide à haute température (450 ° C) avec un revêtement de chambre en alliage d'aluminium. A l'intérieur, un système d'injection de gaz multi-torches est capable de déposer des films d'oxyde et de nitrure de plasma. La conception a également d'excellentes capacités de forme d'onde d'énergie, y compris la modulation d'ondes impulsionnelles avec une source magnétron de forte puissance, permettant un contrôle précis des vitesses et des couches de dépôt des matériaux. Grâce à sa conception économe en énergie, le réacteur P 5000 à MATÉRIAUX APPLIQUÉS est bien adapté aux procédés de dépôt performants. En termes de précision et de précision, l'outil permet une gestion précise de la source d'ions, de la géométrie du substrat et de la température de surface. Son architecture intégrée à double chambre permet d'établir deux ensembles distincts de paramètres de dépôt pour répondre à des exigences difficiles. De plus, le dépôt de film peut être réglé à l'aide d'un interrupteur puissant, mais souple, qui améliore les propriétés du film pendant le processus de dépôt. En plus de sa conception robuste, P-5000 réacteur est adapté à une utilisation avec une variété de substrats. En particulier, il convient bien aux plaquettes de silicium, ainsi qu'aux substrats sensibles à la température tels que le verre, les composites et le polyimide. De plus, sa compatibilité avec un large éventail de matériaux permet le dépôt complexe d'empilements multicouches, habituellement requis dans de nombreuses applications de fabrication. Le réacteur AMAT P 5000 est un puissant outil de dépôt capable de répondre à une série d'exigences précises en matière de dépôt. Sa conception robuste permet d'obtenir des résultats de dépôt précis et reproductibles avec un contrôle précis des paramètres du procédé. Son système d'injection de gaz multi-torches est capable d'obtenir des vitesses précises de dépôt de matériaux et de dépôt de couches. Grâce à sa conception économe en énergie et à sa large compatibilité avec les substrats, cet outil de pointe répond aux exigences précises de nombreuses applications industrielles.