Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9262471 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un outil avancé de traitement du plasma utilisé pour la fabrication de circuits intégrés. Il est conçu pour produire des nanopatternes métalliques à haute densité, ultra-basse température, avec des caractéristiques uniformes. Ses caractéristiques comprennent un système de diagnostic in situ et un générateur de radiofréquences automatisé qui aide à assurer le traitement du plasma est répétable et fiable. En outre, sa conception avancée fournit un rapport d'aspect ultra élevé entre l'électrode et la zone du substrat pour une qualité optimale du produit. Le réacteur AMAT P-5000 est constitué d'une source d'ions, d'un ioniseur et d'un substrat. La source d'ions est une chambre en céramique qui abrite le plasma et est entraînée par l'énergie des micro-ondes. L'ioniseur génère un champ électrique très fort pour diviser les molécules de gaz en leurs ions positifs et négatifs, tandis que le substrat contient la couche MONO (Metal-Oxyde-Nitrure-Oxyde). La mise en rotation des électrodes capacitives, situées dans la chambre, contribue à maintenir l'homogénéité du plasma sur l'ensemble du substrat, grâce à leur disposition tournante. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le P 5000 utilise un processus complet de traitement du plasma en plusieurs étapes pour obtenir une résolution haute densité de moins de 10 nm. Ceci comprend une étape initiale de prétraitement du plasma et de gravure de l'oxyde, suivie de l'étape gazeuse principale, et se terminant par des étapes de nettoyage et de post-traitement. L'étape de prétraitement assure un processus à basse température et nettoie le substrat avant la création de motifs. Il peut également agir comme agent de gravure en raison de l'énergie ionique élevée et de la température élevée du plasma. L'étape gazeuse principale consiste en une variété de gaz pour activer le substrat, ainsi que graver/enlever la couche MONO modelée. Enfin, l'étape de nettoyage élimine tout gaz résiduel de la surface du substrat et rétablit l'intégrité de la couche de MONO. Les capacités supérieures de P5000 permettent la production d'appareils sophistiqués de haute qualité avec le système de diagnostic in situ qui peut identifier la cause et l'heure de tout problème. Cette combinaison avec le générateur de radiofréquences automatisé permet de maintenir une uniformité constante sur l'ensemble du substrat, assurant ainsi un avantage concurrentiel aux entreprises. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est également hautement personnalisable et permet des conceptions sur mesure en fonction des besoins du client. Dans l'ensemble, APPLIED MATERIALS P-5000 est un outil avancé de traitement du plasma aidant à la production de nanopatternes métalliques ultra-précis avec des caractéristiques uniformes.