Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9266344 à vendre en France

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ID: 9266344
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1999
System, 8" System skins: Side skins No helium cooling system RF Cable position interlock (Match box): OEM-12B RF-On indicator Mounting: Lamp mounted on remote AC box Minicontroller Heat exchangers: AMAT-0 No heat exchanger skins No chiller No H2O flow switch No EMO guard ring Mainframe: Loadlock / Cassette options: Tilt-out cassette loader Elevator type: 15-Slots No load lock lid lifter Robot Wafer position sensor Umbilicals: Remote signal cable lengths: 50 ft RF Generator coax cable length: 50 ft Smart pump interface cable length: 50 ft Leak check ports Minicontroller: 10 ft No status light tower Signal status indicator: Mainframe No manual Missing parts: SEI Board VGA Board Stepper control board (3) DI/O Boards Hard Disk Drive (HDD) Chamber B: Baratron gauge (10torr) Monitor Main to AC box power cable Frequency: 50 Hz 1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur utilisé pour la gravure et le dépôt de plasma à haute densité. Il est conçu pour fournir une gravure plasma à haute densité précise, un débit élevé et une uniformité de traitement des plaquettes avec une très faible consommation d'énergie. Il dispose d'une chambre haute pression à vide, qui a un transfert plus efficace de plasma haute densité et une meilleure uniformité due à un débit de gaz accru et de meilleures densités de nuages d'électrons. Il est capable de générer du plasma sur une large gamme de pressions et de températures, ce qui permet une précision et un contrôle du processus de gravure pour une meilleure qualité de surface et des rendements plus élevés. Le réacteur AMAT P-5000 est composé d'une série de composants comprenant un équipement automatisé de mélange de gaz, une source de plasma couplée inductivement, une source d'ions, des sources d'ions et un générateur de haute tension. Le système automatisé de mélange de gaz permet un contrôle précis et précis des paramètres plasmatiques tels que la pression, la température et la concentration. La source de plasma couplée inductivement fournit le plasma haute densité pour la gravure, tandis que les sources d'ions sont utilisées pour contrôler l'énergie du plasma. En outre, le générateur haute tension est utilisé pour fournir des niveaux d'énergie précis pour des résultats cohérents. De par son architecture, le réacteur P5000 d'APPLIED MATERIALS P dispose d'une unité de contrôle des gaz en boucle fermée, conçue pour maximiser les performances et réduire les niveaux de contamination. Il dispose de plusieurs régulateurs de débit massique indépendants, stabilité de la température, rétroaction des capteurs et contrôle des gaz en boucle fermée pour assurer une livraison de gaz précise et une gravure uniforme sur une large gamme de tailles de substrat. P5000 réacteur dispose également de plusieurs couches de la technologie de confinement comme une machine de confinement à pression négative et un outil de scellement sous vide, afin de minimiser toute contamination. De plus, le réacteur AMAT P 5000 comprend un outil de manutention unique qui fonctionne en parallèle avec le modèle de gravure de précision pour garantir des résultats précis et reproductibles. Le P 5000 global est un réacteur performant et économique pour un procédé de gravure précis et précis, avec une excellente uniformité et des résultats. Avec ses fonctionnalités avancées et ses systèmes de contrôle automatisé, APPLIED MATERIALS P-5000 est une solution idéale pour une large gamme d'applications avancées de gravure plasma haute densité.
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