Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9267090 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur de nouvelle génération à dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) conçu pour permettre des processus de gravure, de dépôt et de recuit à haute performance pour les géométries et les matériaux avancés des dispositifs semi-conducteurs. AMAT P-5000 utilise une technologie de pointe à double source qui crée une source à double fréquence étroitement couplée pour permettre un contrôle précis des paramètres plasmatiques afin de maximiser la flexibilité et l'efficacité du processus. LES MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 intègre la dernière technologie de chambre de réaction assistée par plasma, offrant une vitesse, une uniformité et un contrôle améliorés des matériaux de procédé. P-5000 l'équipement comprend une capacité de manutention automatisée des plaquettes, un système de détection in situ des points d'extrémité et une capacité de mélange des gaz qui permet des processus PECVD spécifiques à la composition. P5000 offre un traitement performant et économique avec une faible consommation de gaz, permettant aux clients de réduire les coûts d'exploitation tout en atteignant les taux de dépôt souhaités. Il est doté d'une source de plasma intégrée et rigoureusement caractérisée, capable à la fois de chlorures et de fluorocarbones. La poignée intégrée de plaquette avec mandrin sans contact assure une dispersion uniforme des réactifs et des substrats de plaquette, régulant le processus de type p. L'interface touchscreen facile à utiliser fournit des conseils clairs aux opérations d'unité, en incluant le fait de configurer les paramètres de processus et le fait de contrôler de façon optimale le processus de déposition d'AMAT P5000. Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est conçu pour un fonctionnement flexible et fiable, avec des caractéristiques de sécurité avancées, y compris la protection contre le vide et les fuites, une machine interne de coupure de pression et un générateur RF protégé contre la surcharge. Il fournit également une uniformité de dépôt de haute précision pour une variété de matériaux à faible constante diélectrique (faible k), ainsi que des reflets de SiGe contraint. L'outil intègre la détection automatique des paramètres pour réduire la défectuosité et fournir des résultats fiables, tandis que l'actif de mélange de gaz permet aux clients d'utiliser une variété de gaz de processus pour obtenir des processus PECVD optimaux in situ. APPLIED MATERIALS P5000 est un outil puissant pour les applications avancées de semi-conducteurs, offrant un dépôt haute performance qui répond aux exigences strictes de l'électronique d'aujourd'hui, avec la flexibilité et la fiabilité pour s'adapter aux exigences futures.