Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9267680 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour le traitement d'un large éventail de matériaux dans l'industrie des semi-conducteurs et de l'électronique. Il s'agit d'un réacteur à plasma monobloc à entraînement linéaire à couplage inductif avec une grande chambre et une large fenêtre de procédé. AMAT P-5000 est conçu avec un système In-Situ Process Monitoring, un équipement breveté de vérification de forage, et un système de livraison de gaz avancé pour un contrôle précis et en temps réel des processus avec un temps de réponse rapide. Cela permet un traitement reproductible et fiable avec une excellente uniformité et un débit élevé, ainsi qu'un contrôle de processus serré. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 a une taille de chambre de 375mm et peut accueillir jusqu'à 300mm de plaquettes. Il est optimisé pour traiter des rapports d'aspect élevés et des structures 3D. Le « X-Drive » linéaire breveté permet à P 5000 de fournir 0,1 µm contrôle plasma et wiggling wafer complet pour améliorer l'uniformité sur la surface de la plaquette. Il est équipé d'une unité de commande de ventilateur avancée pour optimiser l'uniformité de dépôt. En plus de ses hautes performances, P-5000 réacteur est conçu pour un cycle de vie long et optimisé pour un faible coût de possession. Il est solidement construit avec des composants à faible vibration, une isolation élevée et des matériaux à faible taux de particules. AMAT P 5000 est également équipé d'un système d'ingénierie optimisé pour un entretien facile, évitant le besoin de contrats de services de prix. APPLIED MATERIALS P-5000 dispose d'un contrôleur de processus et d'une machine de diagnostic entièrement intégrés à la chaîne de production pour la surveillance des processus en temps réel et la traçabilité des produits. Il peut communiquer avec presque toutes sortes de systèmes de recette et de base de données standard de l'industrie, y compris Factory Talk Production Centeral, WATRM de Solectron et la propriété CMP Lite d'Applied. Il fournit également une optimisation du processus de production en plusieurs étapes pour améliorer les rendements et les temps de cycle. AMAT P5000 supporte un large éventail de matériaux, dont l'oxyde, le nitrure, le métal, le carbone diamant et les films organiques. Le réacteur est particulièrement bien adapté aux interconnexions avancées, mémoire haute et logique, MEMS et capteurs, appareils opto-électroniques III-V et écrans OLED. APPLIED MATERIALS P5000 offre également une excellente couverture d'étape et une longue durée de vie pour les applications 3D et les dispositifs de mémoire. P5000 est un outil CVD avancé qui est bien adapté aux procédés semi-conducteurs, électroniques et industriels. Il offre des performances de pointe avec un entraînement linéaire robuste, un wiggling complet et un contrôle précis des processus. Le réacteur est conçu pour des dépôts précis et reproductibles avec une excellente uniformité, un débit élevé et une longue durée de vie.