Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9270691 à vendre en France

ID: 9270691
WCVD System.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur de gravure à plasma avancé conçu pour la production de nanodévices performants tels que transistors, circuits intégrés et composants optoélectroniques. Ce réacteur offre une vitesse de gravure optimisée, une homogénéité et une sélectivité tout en conservant un faible coût global de propriété. AMAT P-5000 est une chambre monocouche avec un espacement d'électrodes de 40 cm. La chambre de gravure comporte une cathode inerte tournante pour une gravure uniforme et deux sources parallèles, fonctionnant séparément pour des procédés différents. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 dispose également d'un mécanisme de nettoyage intégré, qui aide à minimiser l'accumulation de particules et réduit les dépôts sur la surface de la plaquette. APPLIED MATERIALS P-5000 utilise la technologie avancée de conversion de puissance, d'excitation du plasma et de traitement du signal pour obtenir une grande uniformité de gravure et de contrôle, ce qui permet des temps de traitement plus rapides et une meilleure performance du dispositif. Il intègre également un équipement de contrôle automatisé piloté par ordinateur, permettant un contrôle précis des paramètres de gravure. AMAT P5000 dispose également d'un système intégré à vide élevé pour minimiser les effets néfastes des conditions de gravure. P-5000 est conçu pour améliorer les performances du dispositif grâce à de faibles fuites et contraintes. Le réacteur utilise des procédés avancés de gravure de l'oxyde pour réduire l'épaisseur efficace de l'oxyde et minimiser les fuites. L'unité utilise également des circuits brevetés d'adaptation RF pour réduire la contrainte induite par la gravure et améliorer les performances du dispositif. P5000 permet également le traitement thermique et le contrôle des contraintes des transistors à couches minces (TFT). Ce procédé implique l'application d'une source de chaleur externe pour activer thermiquement le film mince pour améliorer les performances du dispositif. De plus, le P 5000 peut être utilisé pour le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de dopants, permettant la fabrication de dispositifs avancés. Dans l'ensemble, AMAT P 5000 est un réacteur avancé de gravure de plasma qui fournit d'excellentes performances et la productivité du dispositif. La machine permet un réglage précis des paramètres de gravure, un contrôle automatisé et un traitement thermique et de contrôle des contraintes pour permettre la fabrication de dispositifs avancés.
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