Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9284522 à vendre en France

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ID: 9284522
Style Vintage: 1995
CVD System Process: Depo rate Oxide: 6000 A/min Uniformity: 5% (12) Gases: Gas no / Sccm / Gas 1 / 200 sccm / Sih4 2 / 100 sccm / NH3 3 / 3000 sccm / N2 4 / 2000 sccm / N20 5 / 2000 sccm / CF4 / SF6 7 / 200 sccm / Sih4 8 / 100 sccm / NH3 9 / 3000 sccm / N2 10 / 2000 sccm / N2O 11 / 2000 sccm / CF4 / SF6 AC Power Mainframe configuration: Mark Ⅱ, 6" I/O Wafer sensor (21) VME Slots Phase 3 Robot Phase 3 Cassette handler (8) Slots storage elevator Viton O-ring Clean gas box Pressure control system Throttle valve Isolation valve open / Close type Temp control: Lamp heated Vacuum system Chamber: EDWARDS QDP80+QMB500 Pump Load lock chamber: ADP80 Nitrogen Compressed air: CDA / N2 Exhaust Fuse: AC/DC Power box RF Power supply: 1.2 kw and 13.56 MHz Power supply: 208 V, 200 A, AC Input, 3 Phase, 5 Wires 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur est un équipement de pointe utilisé pour des procédés complets de dépôt en couches minces. AMAT P-5000 utilise la technologie de dépôt physique en phase vapeur (PVD), ce qui la rend idéale pour des revêtements conformes de haute qualité et des revêtements durs pour une variété de substrats. MATÉRIAUX APPLIQUÉS La P 5000 est équipée de deux alimentations permettant un contrôle indépendant des impulsions et d'une vanne de grille intégrée qui offre une homogénéité de température supérieure. AMAT P 5000 peut également être équipé d'un générateur haute tension intégré, permettant d'adapter le processus de dépôt à des applications spécifiques. En outre, P-5000 peut être intégré avec des chambres d'expansion, des pompes d'admission, des pompes à vide, des serrures de charge et une vanne à pop-pet, assurant un dépôt de couche mince de haute qualité avec une reproductibilité supérieure du procédé. AMAT P5000 Reactor est équipé d'une interface de contrôle conviviale facile à utiliser et de protocoles de sûreté avancés. En outre, AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 offre des fonctionnalités avancées de contrôle des processus, permettant un réglage complet des paramètres du processus avec une automatisation robuste. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P-5000 le réacteur peut accueillir des substrats jusqu'à 450 mm, offrant une homogénéité et une vitesse de dépôt supérieures sur de larges surfaces. P5000 est équipé d'un design de chambres unique lui permettant de traiter des substrats de toutes tailles et formes. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Le réacteur est une technologie précieuse pour la production rapide et économique de films minces complexes avec une qualité supérieure et une répétabilité de processus. Le réacteur est un outil parfait pour de nombreuses industries nécessitant des performances améliorées, une sécurité accrue et un contrôle amélioré. En supprimant les procédés de dépôt traditionnels et en introduisant un procédé de dépôt automatisé, très uniforme, rapide et fiable, le P 5000 offre une uniformité de film supérieure, une adhérence et une couverture lisse sur une variété de substrats. Cela en fait l'une des technologies les plus fiables et les plus fiables pour le revêtement d'une large gamme de substrats.
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