Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9288566 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est une chambre de procédé polyvalente et à haute température utilisée pour diverses applications de semi-conducteurs. Il s'agit d'une unité à flux continu à haute température qui est utilisée pour créer une variété de réseaux à l'aide de divers matériaux, dont le silicium, l'arséniure de gallium, le cuivre et le germanium. AMAT P-5000 se compose d'un corps, d'une chambre cylindrique multi-zones, de quatre modules de transport et d'un module de réaction. Le corps comprend une cuve en acier inoxydable et un système de régulation de température. Le système de régulation de température est un système combiné convectif-radiatif qui chauffe la chambre et son contenu à la température de procédé désirée. À l'extrémité opposée à la chambre de procédé se trouve un port d'entrée de gaz qui alimente Argon et d'autres gaz de procédé. Il contient également un réacteur, un four et un ensemble de moteurs d'entraînement pour l'automatisation. La chambre cylindrique multi-zones est le cœur des MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000, où les processus renforcés par plasma ont lieu. Il se compose de la zone source, de la zone de la méthode ultime (UMM) et de la zone de réaction. La zone source fournit une puissance RF pour permettre l'ionisation des gaz de procédé. La zone UMM est utilisée pour mélanger et déposer le matériau source sur le substrat avec une couverture uniforme. La zone de réaction est utilisée pour le dépôt et la gravure des plaquettes et la création de motifs, caractéristiques et autres microstructures. Les quatre modules de transport sont responsables du déplacement des substrats et du transport des gaz chauffés dans la chambre. Les deux premiers modules, Charge et Déchargement, sont situés à l'extérieur de la chambre. Elles s'ouvrent et se ferment pour introduire des plaquettes dans la chambre et les enlever une fois le processus terminé. Les deux modules restants, la navette et le SIG, forment le joint étanche autour de la chambre de traitement, permettant la recirculation des gaz chauffés et les empêchant de s'échapper. Enfin, le réacteur P 5000 est équipé d'un module de réaction, constitué de chambres de traitement qui régulent la pression et fournissent la puissance continue et la puissance RF nécessaires au procédé désiré. Il comprend un ensemble d'électrodes de procédé, des alimentations en courant alternatif et continu, un générateur de plasma et un contrôleur numérique programmable. En résumé, le réacteur APPLIED MATERIALS P5000 est une chambre de procédé robuste et à haute température capable de processus à haute température soutenus. Il utilise une combinaison de haute tension et de plasma pour catalyser des procédés haut de gamme. La conception est flexible et efficace, permettant la production de pièces de haute qualité avec des structures complexes.