Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9291957 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour la production de dépôts en couches minces. Ce réacteur très efficace a été conçu pour traiter des couches de silicium, de germanium et de nitrure de gallium avec des épaisseurs aussi minces que 5nm. Le réacteur comporte une chambre circulaire de 300 mm de diamètre et 250 mm de longueur. La base de la chambre est constituée d'un four à haute température d'une capacité de 12 kW. Cette conception unique permet de contrôler avec précision la température de la chambre et d'optimiser encore la vitesse de dépôt. Le réacteur AMAT P-5000 est équipé d'une pompe à vide mécanique à suspension magnétique avancée qui fournit des niveaux de vide sans atmosphère. Avec ce système basse pression, la vitesse de dépôt du nitrure de silicium, de germanium et de gallium est fortement augmentée. Il est conçu pour maintenir une pression très faible dans l'enceinte afin d'assurer une croissance très uniforme de la couche sur l'ensemble du substrat. L'unité dispose également d'une machine à gaz avancée pour faciliter le contrôle précis des gaz de procédé. L'outil supporte un certain nombre de gaz de procédé, permettant un dépôt polyvalent. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est conçu avec une lampe Poly Hot AS-PET qui a la capacité de chauffer le substrat jusqu'à une température maximale de 1000 ° C Cette caractéristique permet l'utilisation d'une gamme de matériaux de substrat, tels que du silicium polycristallin, du verre polysilicate, de l'oxyde de polyarylène et du polyphtalamide. En plus, P5000 utilise une lampe à quartz de conception unique qui permet un contrôle de processus à grains fins. La stabilité de l'actif est également cruciale pour la qualité du film mince et ici AMAT P 5000 excelle. La chambre est étanche pour éviter toute fluctuation à court terme de l'atmosphère, tandis que le débit de gaz en boucle fermée assure le maintien permanent de la chambre à une pression constante. Les systèmes de contrôle et de stabilisation de la température très avancés assurent également que la chambre est maintenue à une température et une pression constantes pour assurer des couches minces de la plus haute qualité. En termes de manutention, P-5000 réacteur est incroyablement efficace. Équipé d'un modèle de refroidissement intégré et d'un ventilateur, l'équipement est capable de refroidir rapidement le substrat sans nécessiter de source de refroidissement externe. En outre, grâce à sa construction légère, la chambre est extrêmement facile d'accès et de manipulation. APPLIED MATERIALS P5000 est conçu avec des dimensions compactes, ce qui permet de le placer sur presque n'importe quelle table de laboratoire. Dans l'ensemble, APPLIED MATERIALS P-5000 est un système CVD efficace conçu pour la production de couches minces. Il offre un contrôle précis de la température et des résultats extrêmement durables et reproductibles. Il est idéal pour le dépôt d'un large éventail de matériaux et s'est avéré être un choix populaire parmi les chercheurs et les professionnels de l'industrie.