Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9292241 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est une chambre de traitement de surface multi-chambres à haut débit avec des caractéristiques de pointe conçues pour fournir un traitement de précision haute performance pour une large gamme d'applications de circuits intégrés de moins de 10 nm. La chambre offre une gamme de tailles de fonctionnalités jusqu'à 0,3nm et offre des performances robustes même à des doses extrêmement faibles jusqu'à des nanoampères à un seul chiffre. Il offre un parallélisme supérieur pour un contrôle précis du profil, une sensibilité élevée à l'hydrogène et un contrôle de précision à l'échelle nanométrique pour répondre aux exigences de production d'IC. AMAT P-5000 est une source avancée de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD). Il utilise une puissante chambre source, une vitesse de pompe hyper rapide et un contrôle avancé des processus à température variable pour réduire le temps nécessaire au traitement de presque n'importe quel substrat. Cette capacité permet au client de mettre son procédé en production en une fraction du temps. Le réacteur est unique en ce qu'il offre une précision de référence de procédé sans précédent en fournissant un contrôle de température variable en standard sur le système. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 utilise le contrôle de température à quatre quadrants pour s'assurer que la température du gaz dans la zone du réacteur peut correspondre exactement au profil de température du client. P-5000 offre également une caractéristique unique « plasma en place », qui peut assurer des dommages thermiques minimaux dus au refroidissement rapide et au réchauffement du substrat. Cette capacité plasma en place permet également de prévenir les anomalies de dépôt sur le substrat en maintenant une température de substrat uniforme pendant le cycle de dépôt thermique accéléré. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est conçu pour offrir des performances supérieures et permettre aux clients d'atteindre les résultats de processus souhaités sans avoir besoin d'un haut niveau d'expertise. P 5000 offre une interface de contrôle conviviale, qui permet au client de surveiller les paramètres du processus, d'effectuer des ajustements à la volée et d'intégrer des retours de processus pour améliorer le contrôle du processus. APPLIED MATERIALS P5000 dispose également d'une fonctionnalité PECVD entièrement optimisée qui permet aux clients de tirer parti des avantages de PECVD dans un système unique et économique. AMAT P 5000 supporte plusieurs recettes de processus différentes, y compris les procédés de rectification au niveau du substrat, de lithographie, de recuit et d'oxydation. Les bases de données intégrées de matériel, de logiciels et de recettes pré-configurées simplifient le processus de configuration et réduisent le temps nécessaire pour développer et ajuster les piles diélectriques et d'autres applications. En conclusion, P5000 est une chambre de traitement de surface robuste, riche en fonctionnalités et avancée pour les applications IC de moins de 10nm. Le réacteur offre une précision et des performances supérieures, ainsi que l'interface utilisateur et le support de multiples recettes pour un procédé simplifié, rentable et efficace.