Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9293601 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) utilisé dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Destiné à optimiser les vitesses de réaction, ce réacteur fonctionne en introduisant un gaz réactionnel dans la chambre du réacteur qui est ensuite chauffée à une température et une pression prédéterminées. Une chambre de réaction remplie de particules inertes est utilisée pour absorber les molécules de gaz réactionnels, ce qui déclenche à son tour une série de réactions chimiques qui font pousser un film mince sur une surface de substrat. Le réacteur AMAT P-5000 a une conception en boucle fermée, de type four, qui maintient une température stable, permettant un contrôle précis du processus de dépôt. La chambre fonctionne en introduisant un gaz réactionnel dans l'espace à chauffer et à pressuriser. La puissance appliquée et la pression dans la chambre sont alors utilisées pour manipuler la vitesse de réaction, ce qui affecte à son tour la vitesse de dépôt et la qualité du film mince. La plage de température et la plage de pression de la chambre peuvent toutes deux être fixées par l'utilisateur, ce qui permet un contrôle précis des réactions chimiques à l'intérieur de la chambre. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 dispose également d'un système de regroupement en phase vapeur pour contrôler le dépôt directionnel des particules et éliminer toute accumulation de matériaux sur les parois de la chambre. De plus, un système de gravure impulsionnel est conçu pour améliorer la qualité de la finition de surface du film mince. P5000 est capable de traiter une variété de matériaux qui comprennent les métaux, inorganiques, organiques et les oxydes. Au fur et à mesure du dépôt du film, le réacteur fonctionne également pour surveiller le processus en temps réel, permettant à l'utilisateur de contrôler et d'ajuster les conditions à l'intérieur de la chambre, telles que la cadence et la qualité du film. Cela garantit une qualité de film supérieure et empêche l'accumulation de matériaux dans les murs de la chambre. Le réacteur P 5000 offre une excellente uniformité de température, une vitesse de dépôt uniforme et un contrôle constant de l'épaisseur du film pour diverses applications de couches minces. Ce réacteur est fréquemment utilisé dans la recherche en couches minces, la fabrication de semi-conducteurs et la fabrication de cellules solaires en couches minces.