Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9294424 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur est un équipement de dépôt de haute performance et de pointe conçu pour les industries des semi-conducteurs et de l'énergie solaire. Il permet le dépôt de couches minces, telles que le SiO2, le SiN, l'Al2O3, le TiOx et d'autres matériaux diélectriques, et de couches métalliques, telles que le tantale et le titane, pour produire une large gamme de produits semi-conducteurs et de cellules solaires. Le réacteur AMAT P-5000 se compose d'une plate-forme à grappes, où sont placés des supports de substrat, et d'une chambre ALD, qui abrite les matériaux de dépôt. La plate-forme de grappes a une hauteur et un angle d'inclinaison réglables pour assurer une uniformité maximale de dépôt et maintenir l'épaisseur de revêtement souhaitée. La chambre ALD contient un ensemble de zones réglables qui peuvent être réglées aux pressions, températures et précurseurs désirés pour le dépôt. Cette chambre abrite également une plaque coaxiale RF qui fournit une alimentation RF et permet un traitement stable et uniforme. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 Le réacteur utilise plusieurs technologies de pointe pour assurer des résultats de dépôt optimaux. La fonction de cartographie multiplateforme (MPM) permet une adéquation efficace des paramètres de dépôt entre les substrats. Cette caractéristique de cartographie permet également d'obtenir des taux de dépôt homogènes élevés pour chaque substrat. La fonction de distribution Gated Delivery chorégraphique (CGD) disperse avec précision et délivre des précurseurs dans la zone de dépôt, permettant un contrôle précis de l'épaisseur du film. La technologie de contrôle des réacteurs FueliCom permet une surveillance plus précise du temps, de la température et de la pression, tandis que le système autofocus permet un dépôt de couches conductrices de haute précision. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Reactor offre également une productivité accrue, avec une capacité d'une large gamme de tailles de substrat et d'épaisseurs de film. L'ensemble de caractéristiques variables permet un dépôt uniforme de couches conformes et une contrainte minimale du film. De plus, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 peut fonctionner selon divers modes de fonctionnement continu ou impulsionnel et offrir des propriétés de film uniformes. Le logiciel convivial piloté par menu peut être intégré à des applications extérieures pour un contrôle et une surveillance supplémentaires. En résumé, le réacteur P 5000 est une unité de dépôt avancée conçue pour être utilisée dans les industries des semi-conducteurs et de l'énergie solaire. Il dispose de diverses technologies de pointe, telles que la cartographie multiplate-forme, la livraison par chorégraphie, le contrôle des réacteurs fuelicom, l'autofocus et un logiciel de menu convivial, pour assurer un contrôle précis et un dépôt uniforme des couches minces et métalliques. Cette machine est un choix idéal pour produire une large gamme de produits semi-conducteurs et de cellules solaires.