Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9294470 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 9294470
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1988
TEOS CVD System, 6"
1988 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour un usage industriel. Ce réacteur fournit une technologie habilitante critique pour une large gamme d'applications de fabrication de semi-conducteurs, LED et écrans plats. Il s'agit d'un réacteur quadrilatère monobloc ou bicouche à suscepteur tournant et capable de déposer des couches minces diélectriques, semi-conductrices et métalliques. Le réacteur est équipé d'un porte-plaquettes motorisé capable d'accélérer ou de ralentir sa rotation selon les besoins. Deux serrures de chargement assurent le chargement de première entrée, première sortie (FIFO) d'un maximum de deux plaquettes de procédé dans les quatre chambres chauffées par induction. Le mouvement des porte-plaquettes assure un échauffement précis des deux côtés de la plaquette. Les chambres sont chauffées à travers quatre suscepteurs identiques alimentés chacun par un seul bouton de réglage. Ceci permet un contrôle précis de la température de chaque chambre. Les gaz de procédé sont fournis à partir d'un seul collecteur d'alimentation en gaz de procédé. Les pressions de fonctionnement du procédé sont contrôlées électroniquement par deux manomètres de capacité pour un contrôle optimal du vide. Le réacteur AMAT P-5000 dispose également de fonctions d'autodiagnostic et d'enregistrement de données. Le transfert des plaquettes est suivi et surveillé par un système de caméra qui enregistre les données de suivi des plaquettes dans la mémoire du contrôleur du réacteur. De plus, les MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 permettent diverses configurations de processus en assurant un dépôt uniforme sur toute la surface de la plaquette. La conception de P-5000 est à la fois flexible et fiable et le réacteur peut être utilisé avec une gamme de matériaux dont SiN, AlN, SiO2, CET et le tungstène. Le débit élevé, les temps de cycle courts et le fonctionnement fiable de APPLIED MATERIALS P5000 en font un choix rentable et efficace pour la production industrielle de films minces.
Il n'y a pas encore de critiques