Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9296351 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement polyvalent et performant de réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) utilisé pour le dépôt avancé de couches minces à base de silicium. AMAT P-5000 est un réacteur horizontal à double chambre. Il est conçu pour les procédés de dépôt avancés qui nécessitent un contrôle précis de la température, de la pression et du débit. Le système dispose d'une chambre supérieure pour le processus chambre charge-lock et d'une chambre inférieure pour le contrôle charge-lock et le transfert de plaquettes. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le P 5000 possède des caractéristiques de gestion avancées, notamment des processus d'automatisation, une capacité à haute température et un fonctionnement à basse pression, ainsi que des paramètres de processus de précision. Il peut fonctionner avec des gaz de procédé standard en silicium CVD et a une compatibilité optionnelle de 300mm. La gestion intégrée des gaz contrôle la température de réaction et permet une surveillance répétable détaillée de la température et un contrôle d'uniformité. L'unité a également une conception brevetée de coque de confinement thermique qui élimine la stratification thermique. L'enceinte chauffée d'AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est conçue pour assurer une répétabilité maximale des performances du procédé en permettant un contrôle indépendant de la température et de la pression du gaz de procédé dans chacune des deux chambres. Il dispose également d'une régulation de pression en amont ainsi que d'une machine à vide humide/sèche intégrée. P 5000 dispose de contrôles de processus avancés tels que le contrôle automatisé des recettes, les paramètres de processus programmables à distance et les capacités de réseautage pour surveiller et contrôler l'état des outils et les paramètres de processus. Il dispose également d'une surveillance et d'un contrôle en temps réel des systèmes de verrouillage de charge et de transfert de plaquettes. L'actif de gestion intégrée du gaz, la capacité à haute température et le fonctionnement à basse pression améliorent l'efficacité et la répétabilité. Enfin, P-5000 dispose de dispositifs de sécurité tels que l'arrêt d'urgence, les alarmes sonores et visuelles et le transfert de données sécurisé. Le modèle est durable et fiable et est facilement entretenu, ce qui en fait un excellent choix pour les procédés de dépôt avancés tels que la pulvérisation et le CVD.