Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9308001 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un outil polyvalent de traitement de substrat semi-conducteur utilisé principalement dans la production de microprocesseurs haute performance et de circuits intégrés (IC). L'équipement est conçu pour un fonctionnement à haut débit et ses sous-systèmes avancés de manutention des plaquettes permettent un chargement et un déchargement rapides, ce qui permet un débit élevé. Le système est composé de différents modules, dont la chambre du réacteur, la chambre de transition, la chambre de sortie de bord et une unité de refoulement séparée du substrat. La chambre du réacteur est le composant principal de la machine et abrite la chambre de procédé propriétaire, qui a une roue tournante qui déplace la plaquette sur la surface de traitement pour même le chauffage et le refroidissement pendant le processus. La chambre de transition sert d'interface entre la plaquette et la chambre de sortie de bord, qui abrite les modules de gravure, CMP et autres processus utilisés pour produire le produit final. L'outil AMAT P-5000 utilise la technologie à vide élevé et à vide ultra-élevé pour créer un environnement nécessaire au traitement contrôlé des substrats. À l'intérieur de la chambre de procédé, un substrat peut être exposé à des températures allant jusqu'à 850 ° C et des pressions aussi faibles que 10-8 torr. La chambre de procédé est équipée d'un actif de gravure, d'un modèle de spin-coating, d'un équipement CPL (Chemically Vapor Deposited) et d'un système de photorésistance, qui permettent tous une gamme complète de capacités de traitement de substrat. L'unité de traitement d'image fournit des informations sur la surface du substrat pour que les composants du procédé contrôlent leurs fonctions. La chambre de sortie de bord, quant à elle, est équipée de divers capteurs et scanners pour contrôler la qualité et l'uniformité du processus final. MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'unité P 5000 est un élément important des lignes de production modernes de semi-conducteurs, fournissant une plate-forme cohérente et fiable pour la création de produits de nouvelle génération. Il est conçu pour réduire les coûts de production et augmenter le débit, permettant une production efficace et efficiente. Grâce à ses technologies de pointe, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 peut garantir que les produits sont produits de façon cohérente avec la plus haute qualité de matériau et de précision.