Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9308744 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour la production en grande quantité de substrats épitaxiaux et homoépitaxiaux et de dispositifs semi-conducteurs à large bande, tels que le carbure de silicium, l'arséniure de gallium et l'InP. Cet équipement utilise un procédé de diffusion AMAT et de réaction chimique pour déposer des matériaux fins conformes sur un substrat. AMAT P-5000 est un système à haut volume qui peut produire jusqu'à 1 000 plaquettes par heure et qui est conçu pour produire des substrats à large bande. Il utilise une zone réactionnelle, une zone de diffusion et une zone gazeuse, ce qui permet la formation de cristaux d'épitaxie hexagonaux. En contrôlant la pression atmosphérique, la température du procédé et le débit, les matériaux appliqués P 5000 est capable de produire des films ultra-minces et des couches homoépitaxiales. APPLIED MATERIALS P-5000 utilise un procédé à deux zones qui comprend une zone de pré-réaction et une zone de réaction principale. Dans la zone de pré-réaction, les gaz sont introduits à un débit et une température spécifiques. Le plasma généré casse les molécules en fragments plus petits, qui sont ensuite transportés dans la zone réactionnelle. Dans la zone réactionnelle, les fragments sont déposés sur le substrat sous forme de couche mince et conforme. Le débit est également monté et descendu si nécessaire pour un contrôle optimal du traitement. P5000 réacteur dispose également d'un contrôle numérique de la température, du contrôle de pression et de l'adaptation RF qui permet un contrôle précis des paramètres du processus. La conception en chambre ouverte permet également de s'assurer que différents gaz et composés peuvent être utilisés pour des applications spécifiques. L'unité est certifiée pour une sécurité optimale avec des composants antistatiques pour une fiabilité accrue. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 est un outil polyvalent et efficace pour la croissance de matériaux avancés. En contrôlant la pression atmosphérique, la température du procédé et le débit, la machine peut développer de façon fiable des substrats et des matériaux de haute qualité qui sont idéaux pour les dispositifs semi-conducteurs. Grâce à un contrôle précis et à des dispositifs de sécurité améliorés, AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 peut fournir les matériaux de haute performance nécessaires à la réalisation de technologies de nouvelle génération.