Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9308754 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un type de réacteur AMAT principalement utilisé pour le traitement de matériaux semi-conducteurs. Il s'agit d'un dispositif de haute technologie qui peut être utilisé pour diverses applications, y compris le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt de couche atomique (ALD) et le dépôt physique en phase vapeur (PVD). AMAT P-5000 est capable de traiter des matériaux à des températures allant jusqu'à 200 degrés Celsius. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est un réacteur monobloc, à haut débit, de type batch. La chambre du réacteur est conçue avec six zones isolées thermiquement qui peuvent être chauffées ou refroidies indépendamment. Ceci permet une répartition thermique uniforme dans toute la chambre. La chambre est également équipée d'une trémie à 4 gaz, d'un équipement de contrôle de pression avancé, d'un viseur électro-optique et d'une configuration de flux de gaz différentiel. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 dispose d'une configuration de paroi froide brevetée unique qui permet un traitement à haut débit à basse température. Il dispose également d'une technologie optionnelle de chauffage par faisceaux électriques, qui permet un traitement à haute température avec une excellente uniformité thermique. AMAT P 5000 dispose également d'un mode « Quartz Spacers Between Wafers » (QSBW), qui contribue à améliorer l'uniformité et à réduire la formation de particules. En outre, P-5000 peut être personnalisé avec un système intégré de verrouillage de charge pour le chargement et le déchargement de grandes tailles de lots. Cette unité est également équipée d'un bras de manutention isolé sous vide, ainsi que d'une source de plasma RF/DC automatisée. AMAT P5000 dispose également d'un collecteur de refroidissement à plate-forme chaude fermée (CHP) conçu pour assurer un refroidissement uniforme dans toute la chambre et au niveau des plaquettes. APPLIED MATERIALS P5000 est une machine de réacteur polyvalente et fiable qui fournit des processus automatisés et autosurveillants pour le traitement des matériaux à l'échelle micro et nanométrique. C'est une solution fiable et économique pour différents types d'applications CVD, des couches minces et membranes aux structures complexes.
Il n'y a pas encore de critiques