Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9311420 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) habituellement utilisé pour déposer des couches minces sur des semi-conducteurs ou des substrats apparentés. Il utilise un système CVD basse pression, ou sous vide, dans lequel des gaz précurseurs sont introduits dans la chambre de procédé, réagissant avec le substrat pour déposer la couche mince désirée. AMAT P-5000 est conçu pour accueillir jusqu'à huit substrats monobloc à la fois, et il peut être configuré avec divers composants, ce qui permet de répondre à des exigences de processus spécifiques. La chambre de procédé est construite en aluminium ; avec une vue en quartz permettant une inspection visuelle du substrat pendant le traitement. La chambre est également équipée d'une source électronique de dépôt chauffée résistivement, et d'un ensemble de tête de douche. La source électronique de dépôt fournit au substrat l'énergie nécessaire au processus, tandis que l'ensemble de la tête de douche est utilisé pour une grande variété de procédures de pré et post-traitement, y compris le pré-nettoyage, la gravure au plasma et le post-nettoyage. La chambre comprend également des contrôleurs de débit massique (MFC) pour contrôler l'introduction de gaz précurseurs dans la chambre de procédé, ainsi que des chemises en quartz pour maintenir une uniformité de procédé supérieure. Le contrôleur pour les matériaux appliqués P 5000 est un système informatique mono-bord avec un écran VGA de 5 pouces, couleur, une souris, et un clavier à membrane, qui permet à l'utilisateur d'entrer des commandes. Il comprend également plus de 100 recettes capables de stocker des recettes à rappeler à un moment ultérieur. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 est capable de déposer un large éventail de matériaux et de couches minces, y compris des matériaux diélectriques tels que l'oxyde d'aluminium, les nitrures et les oxydes. Ce système est également utilisé pour le dépôt de métaux tels que l'aluminium, le nickel et le titane. Au-delà, le P 5000 peut également être configuré pour traiter des sources de gaz organométalliques. En conclusion, AMAT P5000 est un outil important pour la déposition de film mince, utilisée abondamment dans l'industrie de semi-conducteur. Les différents composants d'AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 permettent une excellente uniformité et un excellent contrôle des processus, ainsi que la capacité de traiter de nombreux types de matériaux différents.