Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9312458 à vendre en France
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AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à plasma avancé conçu pour des procédés tels que le dépôt chimique en phase vapeur à grande surface, à basse pression et semi-atmosphérique, la pulvérisation et la gravure. L'équipement AMAT P-5000 offre une combinaison imbattable de performances extrêmes sous vide, de RF de grande puissance et de flexibilité de processus, élargissant la capacité des technologies améliorées par le plasma. Le système dispose d'une grande chambre de 6 pouces, répondant aux charges des plaquettes jusqu'à 200 mm. Il contient également une lampe Xénon à arc court pour les applications UV-CVD, et un faible verrouillage de charge pour le chargement et le déchargement rapides et précis. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le P 5000 est hautement personnalisable, grâce à la conception de la chambre de procédé qui permet de l'adapter à une gamme d'applications de dépôt et de gravure, y compris le dépôt d'oxydes pérovskites et de diélectriques, la gravure de dispositifs MEMS et la génération de nanotubes fonctionnalisés. L'unité est équipée d'un ensemble de systèmes de commande avancés, tels que la machine d'alimentation, avec deux sources réglables indépendamment ; contrôle de l'état de la chambre ; contrôle chimique réactif ; et le contrôle de la mémoire de la recette. En outre, il intègre des diagnostics qui surveillent les paramètres technologiques en temps réel et fournissent une analyse post-processus complète de la réaction. De plus, il utilise un générateur de puissance RF qui, du fait de sa puissance élevée, permet d'utiliser des vitesses de processus élevées et des temps de cycle raccourcis. Tirant parti de sa source de plasma robuste et de son outil de contrôle avancé, APPLIED MATERIALS P-5000 obtient un mélange uniforme en termes d'espèces réactives avec une pureté élevée, ce qui réduit le nombre de particules et augmente le débit. C'est l'atout idéal pour la recherche, le développement et la production de films minces de haute performance. En outre, P5000 dispose de multiples dispositifs de sécurité, y compris des alarmes incendie, des verrous de sécurité non volatils et des circuits de boucle de sécurité, contribuant à la prévention des processus dangereux ou des dysfonctionnements du modèle. Ces mesures réduisent considérablement les risques liés aux processus, ce qui permet aux utilisateurs de maximiser leur productivité. Dans l'ensemble, P-5000 est la plate-forme idéale pour des processus plasmatiques exigeants. Grâce à sa grande chambre, à son équipement avancé de contrôle des processus et à ses nombreuses caractéristiques de sécurité, AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 offre des performances et une fiabilité inégalées pour un large éventail d'applications.
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