Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9351563 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un outil de production robuste et performant conçu pour permettre le dépôt de matériaux allant des alliages aux oxydes en passant par les diélectriques avec une couverture de surface complète et des microstructures optimisées. Le réacteur est alimenté par une source très efficace avec un faisceau d'électrons pulsés et un ioniseur à haut rendement, capable de produire des taux de dépôt élevés avec un degré élevé de couverture et d'homogénéité. Le réacteur AMAT P-5000 possède un faisceau d'électrons pulsés (PEB) intégré de grande puissance qui décélère uniformément les ions, permettant une couverture uniforme dans une large gamme de processus de gravure, offrant une couverture complète aux structures profondes. Le PEB permet également un recuit à haute température des matériaux lors du dépôt, permettant un meilleur collage des métaux et de meilleures propriétés des matériaux. Un ioniseur bidirectionnel réglable permet un réglage fin des populations d'ions, ce qui permet un bombardement ionique efficace et une couverture uniforme du substrat. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le P 5000 est un système de réacteur à haut débit et économique avec une large gamme d'applications. Il convient à une gamme de procédés dans le domaine de la microélectronique, y compris le dépôt de diélectriques, l'évaporation des métaux et le placage des métaux. Le réacteur est également bien adapté au dépôt de films organiques, inorganiques et hybrides tels que des isolants, des conducteurs et d'autres types de substrats. De plus, le réacteur est adapté aux procédés de recuit aussi bien dur que doux pour modifier les propriétés et la microstructure du substrat. P-5000 réacteur dispose d'une conception en plusieurs étapes qui permet un lavage rapide des plaquettes avant le dépôt, et le séchage des plaquettes après la gravure est terminé, pour une meilleure qualité de traitement. Le système comprend également un moniteur plasma dédié pour assurer un contrôle efficace et précis des paramètres de la chambre. De plus, APPLIED MATERIALS P-5000 utilise un panneau de gaz, permettant aux utilisateurs d'utiliser une grande variété de gaz pour le calibrage ou le nettoyage de chambre. Le réacteur P5000 hautement efficace est idéal pour les opérations de production dans un large éventail d'applications, et est soutenu par AMAT soutien technique étendu, formation, et services. P 5000 est une solution idéale pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs nécessitant des résultats de haute qualité, fiables et reproductibles.