Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9356942 à vendre en France

ID: 9356942
Taille de la plaquette: 8"
PECVD System, 8" Nitride PARC (4) CVD Chambers Wafer sense Robot Storage elevator Ergo cassette loaders UNIT 1660 Mass Flow Controller (MFC) RF Matching network Lamp modules Electrical / Pump rack RIF Rack (2) EDOCS With rack Mini controller Monitor rack Heat exchanger Cables Missing parts: Process kits Mouse.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement avancé de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) pour le dépôt de couches minces et de matériaux pour diverses applications. Le système utilise une source de plasma hyperfréquence et des plaques de douche refroidies par eau pour générer des films uniformes et conformes de silicium polycristallin, de nitrure de silicium, d'oxyde de silicium et d'autres matériaux avec un contrôle précis de l'épaisseur. AMAT P-5000 utilise un générateur hyperfréquence à distance et une unité de distribution d'énergie avancée (AEDS) unique pour contrôler avec précision la puissance, la pression et le débit de gaz dans la chambre PECVD. La source hyperfréquence se compose d'une large gamme de fréquences allant de 2,45 GHz à 2,75 GHz, permettant des conditions optimales de dépôt de film. L'AEDS est conçu pour maintenir la puissance hyperfréquence, la puissance RF et les flux de gaz précis et constants, indépendants de la pression de la chambre. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 est lui-même une chambre à quartz, qui offre une excellente uniformité sur une grande surface. La chambre de procédé dispose d'une enceinte complète et d'une machine d'accord automatisée pour assurer une pression, une température et une adaptation RF précises. P 5000 dispose également d'un grand porte-échantillons plat qui peut accueillir des substrats jusqu'à 8 po de diamètre et jusqu'à 1/2 po d'épaisseur. Le temps de traitement est contrôlé par le logiciel d'outils APPLIED MATERIALS P-5000, permettant un contrôle précis de la vitesse de dépôt du film, des flux gazeux, de la pression et de la température. AMAT P5000 est adapté à une grande variété d'applications dans les procédés de dépôt à basse température et à haute température. Il peut être utilisé pour réaliser des films minces tels que du silicium polycristallin, du nitrure de silicium et de l'oxyde de silicium pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Son contrôle précis et son uniformité produisent des films minces très conformes et extrêmement lisses pour des performances de haute qualité et fiables. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 est un outil idéal pour la R-D, le développement de procédés et l'utilisation de la production.
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