Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9373099 à vendre en France

ID: 9373099
CVD system, 6" SV21 SBC Board Main frame type: Mark-II Cassette indexer, 6" clamp 8-Slots elevator (2) CRT Monitors Robots: Phase-III Robot blade: Standard vacuum Center finder: USE Cap wafer sensor AC Rack: 1 Shrink Heat exchanger EMO Option: Turn to release EMO Button guard rings Status light tower (Color / Position): Red, yellow, green, blue Signal cable: 25' Flash Hard Disk Drive (HDD) Floppy: 3.5" SCSI Driver Gas panel: 12 Channels standard / Minicontroller RF Generator: Chamber A: OEM12B-07 Chamber B: OEM12B-02 Chamber C: OEM12B-02 Chamber: Chamber position: A, B, D Chamber type: DLH 1-Hole Process: SiH4 Oxide Heater type: Lamp Susceptor type: Al (3) Matches Delta nitride dual spring throttle valve Gas panel: 20 Standard channels Gas supply: Top down MFC: SEC4400MC Manual valve: NUPRO Pneumatic 2-Way valve: NUPRO MKS 122B Baratron gauge, 10 Torr Gases: Gas / Range N2 / 3 SLM SiH4 / 100 SCCM CF4 / 2 SLM N2O / 2 SLM.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur UHV de haute capacité commercialisé et conçu pour être utilisé dans une variété de procédés à ultra-haute température. L'équipement est conçu pour offrir une propreté et une uniformité de température supérieures, tout en offrant des niveaux élevés de débit et de productivité. Il est construit en acier inoxydable avec une variété de finitions choisies par l'utilisateur. Le système dispose d'une unité de dépôt assistée par jet d'eau à haute performance, fournissant un apport énergétique efficace et un chauffage de substrat pour un contrôle uniforme et répétable des processus de dépôt. Cette machine offre également des capacités de balayage à haute vitesse et d'excitation à plasma pulsé complet. Au cœur de l'outil se trouve une chambre de réacteur ultra-haute performance sous vide. Cette chambre est conçue pour fournir un environnement sous vide ultra-élevé avec de longs cycles de pompage, permettant une grande variété de procédés ultra-haute température, tels que la pulvérisation, l'évaporation à haute température et plusieurs autres procédés chimiques de dépôt en phase vapeur. La haute température, l'uniformité et la modularité d'AMAT P-5000 permettent de tester un large éventail de paramètres et de matériaux de processus dans un seul atout. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le modèle P 5000 est également équipé de systèmes avancés de manutention et de positionnement des matériaux. Cela comprend un équipement de positionnement de plaquettes et un bras robotique qui peut être utilisé pour manipuler des pièces, qui sont toutes deux capables de fonctionner dans les trois axes de mouvement complémentaires. Le système comprend également un étage linéaire pour un positionnement précis des pièces et un mouvement point à point, ainsi qu'un codeur tridimensionnel pour un positionnement précis des pièces. Cette unité permet un chargement et un déchargement efficaces et répétables des composants dans la chambre et permet à l'utilisateur d'obtenir les résultats de processus souhaités. P5000 machine est conçue pour supporter une variété de recettes de procédé, y compris le dépôt conforme et le traitement de gravure. L'environnement stable à haute température et un outil de distribution de gaz réglable le rendent adapté à une variété d'applications. L'actif intègre également des outils intégrés de surveillance des procédés, tels que la surveillance in situ de la chambre de procédés et l'éjection des films déposés. Le modèle de suivi intégré en temps réel permet aux utilisateurs de faire des ajustements en temps opportun pour améliorer les rendements et la qualité de la production. Le réacteur AMAT P 5000 est un choix idéal pour les utilisateurs à la recherche d'une plate-forme de procédé optimisée et hautement productive pour une gamme de procédés de dépôt et de gravure. Avec sa combinaison d'un apport énergétique efficace, une uniformité de température élevée et des capacités intégrées de contrôle des processus en font le choix idéal pour des opérations de production efficaces et reproductibles. Sa conception conviviale signifie que même les utilisateurs inexpérimentés peuvent rapidement configurer et exécuter l'équipement pour obtenir des rendements de processus maximaux.
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