Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9377269 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur de production haute performance qui utilise la technologie de traitement laser Ultrashort Pulse (USP) pour permettre le dépôt précis et prévisible de particules ou de matériaux en vrac sur des substrats. C'est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur métallique (MOCVD) qui permet la croissance de films métalliques organiques sur des substrats à haute température. Le système modulaire d'AMAT P-5000 est construit sur une plate-forme efficace et offre un contrôle supérieur de la taille des fonctionnalités, d'excellentes interactions matérielles et des propriétés fiables du film. Sa capacité de verrouillage de charge permet d'obtenir une uniformité de film supérieure tout en maintenant une faible consommation d'énergie. L'unité dispose d'une plateforme logicielle puissante, qui permet aux utilisateurs de programmer et de contrôler les paramètres du processus, tels que la pression, la température, le débit de gaz et l'injection de matériaux. Il peut également être configuré pour réaliser une large gamme de compositions de matériaux, tels que des alliages III-V, du silicium polycristallin, des oxydes, des nitrures, et une variété d'autres matériaux spécialisés. De plus, les MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 permettent de surveiller et d'ajuster l'épaisseur du film en temps réel afin d'assurer des performances fiables et répétables. La chambre du réacteur est conçue pour créer un champ d'écoulement uniforme et assure une vitesse de dépôt uniforme sur l'ensemble du substrat. Il est capable de traitement à haute température et haute pression, et est conçu pour minimiser les pertes de matériaux et la contamination. La chambre dispose de plusieurs injecteurs de gaz et de sources pour un contrôle précis des débits de dépôt, et peut réaliser un revêtement de grande surface de plaquettes et de substrat. P 5000 est équipé d'une multitude de dispositifs de sécurité pour assurer un fonctionnement sûr et précis. Ceux-ci comprennent la température et les contacts sous pression, les protocoles d'arrêt automatique et la protection contre la corrosion et la contamination. La machine comprend également un outil de dopage de chambre, permettant un dopage précis du substrat avec des composés azotés ou carbonés, et des capteurs pour surveiller les températures du substrat, la pression de chambre et les niveaux de matière/gaz dans la chambre. Le procédé laser avancé USP de P5000, avec ses autres caractéristiques, en fait un outil polyvalent pour effectuer une variété de processus de dépôt. Son homogénéité supérieure et son contrôle du processus de dépôt, ainsi que ses caractéristiques de sécurité fiables, font d'AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 un excellent choix pour des environnements de production performants.