Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9377273 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour le dépôt de couches minces et de dépôts chimiques métalliques organiques en phase vapeur (MOCVD). Avec son architecture innovante, AMAT P-5000 fournit un dépôt de film précis et performant pour les applications les plus exigeantes. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 utilise un fonctionnement à haut rendement et à faible puissance pour minimiser la consommation d'énergie. Le réacteur est conçu avec une plate-forme modulaire, haute température et basse pression, assurant un contrôle précis de la température et un dépôt uniforme du film. Le réacteur est spécifiquement conçu pour accueillir une grande variété de matériaux, y compris des matériaux avec des exigences de température plus élevées, tels que le silicium et le germanium. APPLIED MATERIALS P-5000 dispose d'un équipement de livraison de gaz inerte unique et précis, permettant un haut niveau de contrôle des processus. Le système comprend un algorithme « nul », qui ajuste l'unité pour atteindre une concentration présélectionnée. On obtient ainsi une qualité très uniforme et uniforme de film déposé. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 offre également une large gamme de conduites de gaz internes de manière pré-configurée et indexée, simplifiant la machine d'alimentation en gaz. Cette technologie de pointe permet à un opérateur de basculer rapidement entre des paramètres de dépôt spécifiques sans intervention manuelle. P 5000 est un réacteur très fiable et robuste, qui est conçu pour répondre à la résistance à la corrosion ainsi qu'aux exigences de pression et de température. Une carte de contrôle avancée facilite la surveillance, le contrôle et l'optimisation des processus, permettant un large éventail de paramètres. APPLIED MATERIALS P5000 est un outil intégré qui fournit des solutions de dépôt complètes, de la livraison initiale des précurseurs à la sélection du substrat. Sa large gamme de paramètres d'épaisseur de film, associée à son atout de livraison de gaz inerte, contribue à garantir une qualité de dépôt uniforme. Le prix du réacteur est gérable, ce qui en fait un choix idéal pour des applications sensibles aux coûts.