Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9384772 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur de nouvelle génération de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour le dépôt à haute performance des nanomatériaux. Ce réacteur est capable de traiter une seule plaquette à des températures allant jusqu'à 500 ° C tout en fournissant une faible masse thermique avec une température uniforme sur toute la surface de la plaquette. AMAT P-5000 propose une conception de réacteur vertical 4 zones avec une régulation thermique indépendante et des dispositions d'assistance au gaz frais. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 présente une tête de douche chauffée en deux étapes qui permet une diffusion uniforme des molécules réactives dans toute la chambre de dépôt. La tête de douche est composée de poches de refroidissement empilées verticalement qui assurent une répartition uniforme des molécules réactives sur la surface de la plaquette. En outre, l'équipement de contrôle thermique de P5000 est conçu pour atteindre une uniformité et une stabilité de température élevées pour des résultats de processus cohérents. Son interface de commande programmable permet d'ajuster la composition du réactif, la pression et la température. La capacité de traitement rapide du réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est rendue possible par l'utilisation d'un système de contrôle rapide des gaz. Cette unité permet un réglage précis du débit de gaz, ce qui permet des temps de processus plus rapides avec des débits plus élevés. En outre, pour assurer l'uniformité et la répétabilité, P-5000 est équipé d'un cycle de purge qui chasse la contamination indésirable provenant de la chambre de dépôt. Cela permet à la fois des économies de coûts et la fiabilité des processus. En termes de sécurité, APPLIED MATERIALS P-5000 est conçu pour se conformer aux normes les plus strictes, y compris les normes ASHRAE Class A/B, NFPA Class 1 et UL 945. Le réacteur comprend une machine de mise à l'air libre et des systèmes de détection de gaz anti-explosion pour protéger le personnel et les équipements contre les gaz de procédé potentiellement dangereux. Le réacteur AMAT P5000 convient à un large éventail de matériaux, y compris le graphène, les matériaux lamellaires et les nanotubes de carbone. Lorsque configuré avec l'outil de double refroidissement ADM, AMAT P 5000 offre une plage de température encore plus grande et un contrôle pour des processus de dépôt plus complexes. Cela permet la production de nanomatériaux orientés haute pureté et performance. Dans l'ensemble, le réacteur CVD APPLIED MATERIALS P5000 offre une solution fiable et économique pour le dépôt de nanomatériaux à haute performance. Grâce à sa combinaison d'un contrôle précis de la température et de temps de réaction rapide, P 5000 peut aider les fabricants à répondre aux exigences des procédés de fabrication de semi-conducteurs les plus difficiles d'aujourd'hui.