Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9385160 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur de traitement multi-wafers haut de gamme à haut débit destiné aux laboratoires de production ou de recherche. Il est compatible avec les plaquettes de 200mm standard et offre une capacité de plaquette de 12 « avec une option pour pas moins de 24 » wafer. Le réacteur offre une homogénéité de température supérieure et une répétabilité du procédé avec un haut niveau de stabilité thermique, permettant des résultats de haute performance. AMAT P-5000 offre un meilleur débit avec son chargement intégré de substrat multi-module, ce qui réduit les temps d'arrêt et les coûts d'arrêt. Le réacteur est capable de traiter des étapes telles que la gravure, le dépôt et la pulvérisation dans diverses configurations. Son équipement de contrôle avancé fournit un contrôle de processus supérieur, ainsi que la capacité de surveiller les conditions de processus en tout temps. Le système peut facilement être connecté à d'autres périphériques contrôlables, tels que les contrôleurs de débit massique (MFC) et les systèmes de verrouillage de charge, ce qui permet de traiter efficacement un large éventail de limitations de processus. LES MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le P 5000 fournit également un chauffage de substrat jusqu'à 3000W pour des procédés plus rapides, ainsi qu'une consommation de gaz réduite et une meilleure manipulation des cycles thermiques. L'unité de chambre à processus multiples unifiée permet de réaliser simultanément des tunnels multi-plaquettes pour augmenter le débit de production. Les différentes configurations des chambres de processus peuvent accueillir jusqu'à deux plaquettes de 2 pouces ou une plaquette de 3 pouces par processus. La surveillance in situ offerte par la machine de contrôle permet d'optimiser le processus sans sacrifier le débit. L'une des principales caractéristiques de cet outil est sa capacité à gérer un large éventail de processus réactifs de gravure et de dépôt, y compris la gravure humide, la gravure directionnelle et le dépôt latéral. De tels procédés nécessitent des niveaux élevés de contrôle chimique et de sécurité des sondes. Le réacteur offre des caractéristiques de sécurité améliorées avec un débit de gaz in situ, un débit de gaz de purge et une capacité de contre-pression de gaz inerte pour une meilleure manipulation des plaquettes. P-5000 réacteur est idéal pour répondre aux exigences actuelles en matière de R&D et de production. Ses contrôles de processus avancés et ses multiples configurations internes de chambres de processus donnent aux utilisateurs un contrôle inégalé de leurs processus. L'actif peut facilement être intégré dans les architectures de modèles existantes tout en conservant des performances et une fiabilité de qualité. Avec APPLIED MATERIALS P5000, les utilisateurs peuvent obtenir un débit de plaquettes plus élevé, une meilleure répétabilité des processus et un meilleur contrôle des processus.