Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9389401 à vendre en France
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ID: 9389401
Taille de la plaquette: 6"
CVD System, 6"
SV21 SBC Board
Main frame type: Mark-II
Cassette indexer, 6" Clamp
8 Slots elevator
(2) CRT Monitor
Robots: Phase-III
Robot blade: Standard vacuum
Centerfinder: USE
Cap wafer sensor
AC Rack: 1 Shrink
Heat exchanger
EMO Option: Turn to rekease
EMO Button guardrings
Status light tower (Color / Position): Red, Yelow, Green, Blue
Signal cable: 25'
Flash hard disk drive
Floppy: 3.5" SCSI Driver
Gas panel: 12 Channels standard / Minicontroller
RF Generator:
Chamber A: OEM12B-02
Chamber B: OEM12B-02
Chamber C: OEM12B-07
Chamber:
Chamber position: A, B, D
Chamber type: DLH 1-Hole
Process: SiH4 Oxide
Heater type: Lamp
Susceptor type: Al
(3) Matchers
Delta nitride dual spring throttle valve
Gas panel: 20 Standard channels
Gas supply: Top down
MFC: UFC-1660
Manual valve: NUPRO
Pneumatic 2-Way valve: NUPRO
MKS 122B Baratron gauge, 10 Torr
Gases:
Gas / Range
N2 / 3 SLM
SiH4 / 100 SCCM
CF4 / 2 SLM
N2O / 2 SLM.
Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un outil de haute qualité et fiable utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour améliorer les performances des procédés et contrôler la fiabilité des dispositifs. Ce type de réacteur se compose typiquement d'une source d'ions, d'une chambre de procédé et d'un canon à électrons. La source d'ions est utilisée pour générer un plasma contrôlé qui est utilisé pour déposer des matériaux sur la surface de la pièce. La chambre de procédé agit comme une chambre de réaction où le plasma est modifié aux conditions de procédé désirées. Pour ce faire, on contrôle le débit de gaz, la pression, la puissance et d'autres paramètres. Le canon à électrons est un puissant faisceau d'électrons qui est utilisé pour modifier physiquement la surface du matériau traité. Les principales caractéristiques du réacteur AMAT P-5000 sont sa capacité à fournir des résultats de traitement précis et reproductibles, ainsi que sa capacité à effectuer une surveillance des processus sensibles. Ce type de réacteur repose sur un système de rétroaction multi-canaux et un logiciel d'automatisation avancé pour garantir des résultats cohérents et reproductibles. Ce type de réacteur dispose également d'un système de diagnostic avancé qui surveille l'état des composants, permettant une utilisation plus efficace des ressources. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 est relativement compact et robuste, ce qui le rend idéal pour une utilisation dans des environnements difficiles. Il dispose également d'un système de diagnostic intégré qui surveille et enregistre les données tout au long du processus, permettant des opérations efficaces, le dépannage et la maintenance. De plus, l'unité offre un environnement de travail sûr, avec des fonctions de sécurité qui préviennent et surveillent la surchauffe accidentelle ou les coupures de courant. P5000 réacteur est bien adapté à une variété d'applications dans l'industrie des semi-conducteurs et est souvent utilisé dans les procédés de dépôt et de gravure. Il est capable de traiter des substrats aux hautes propriétés électriques, thermiques et optiques, ce qui le rend adapté à une gamme de matériaux comprenant des polymères, des céramiques, des métaux et des semi-conducteurs composés. En outre, le réacteur peut être utilisé pour un large éventail de procédés, tels que l'implantation ionique, le PECVD, la pulvérisation et diverses applications de gravure chimique. En conclusion, le réacteur APPLIED MATERIALS P5000 est un outil avancé, fiable et précis utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour améliorer les performances des procédés et permettre un contrôle plus précis. Il dispose d'une gamme de caractéristiques qui le rendent idéal pour une variété d'applications, offrant des résultats précis et reproductibles, une surveillance précise et un fonctionnement robuste dans un environnement de travail sûr. C'est le choix parfait pour le traitement de précision dans l'industrie des semi-conducteurs.
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