Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9389401 à vendre en France

ID: 9389401
Taille de la plaquette: 6"
CVD System, 6" SV21 SBC Board Main frame type: Mark-II Cassette indexer, 6" Clamp 8 Slots elevator (2) CRT Monitor Robots: Phase-III Robot blade: Standard vacuum Centerfinder: USE Cap wafer sensor AC Rack: 1 Shrink Heat exchanger EMO Option: Turn to rekease EMO Button guardrings Status light tower (Color / Position): Red, Yelow, Green, Blue Signal cable: 25' Flash hard disk drive Floppy: 3.5" SCSI Driver Gas panel: 12 Channels standard / Minicontroller RF Generator: Chamber A: OEM12B-02 Chamber B: OEM12B-02 Chamber C: OEM12B-07 Chamber: Chamber position: A, B, D Chamber type: DLH 1-Hole Process: SiH4 Oxide Heater type: Lamp Susceptor type: Al (3) Matchers Delta nitride dual spring throttle valve Gas panel: 20 Standard channels Gas supply: Top down MFC: UFC-1660 Manual valve: NUPRO Pneumatic 2-Way valve: NUPRO MKS 122B Baratron gauge, 10 Torr Gases: Gas / Range N2 / 3 SLM SiH4 / 100 SCCM CF4 / 2 SLM N2O / 2 SLM.
Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un outil de haute qualité et fiable utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour améliorer les performances des procédés et contrôler la fiabilité des dispositifs. Ce type de réacteur se compose typiquement d'une source d'ions, d'une chambre de procédé et d'un canon à électrons. La source d'ions est utilisée pour générer un plasma contrôlé qui est utilisé pour déposer des matériaux sur la surface de la pièce. La chambre de procédé agit comme une chambre de réaction où le plasma est modifié aux conditions de procédé désirées. Pour ce faire, on contrôle le débit de gaz, la pression, la puissance et d'autres paramètres. Le canon à électrons est un puissant faisceau d'électrons qui est utilisé pour modifier physiquement la surface du matériau traité. Les principales caractéristiques du réacteur AMAT P-5000 sont sa capacité à fournir des résultats de traitement précis et reproductibles, ainsi que sa capacité à effectuer une surveillance des processus sensibles. Ce type de réacteur repose sur un système de rétroaction multi-canaux et un logiciel d'automatisation avancé pour garantir des résultats cohérents et reproductibles. Ce type de réacteur dispose également d'un système de diagnostic avancé qui surveille l'état des composants, permettant une utilisation plus efficace des ressources. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 est relativement compact et robuste, ce qui le rend idéal pour une utilisation dans des environnements difficiles. Il dispose également d'un système de diagnostic intégré qui surveille et enregistre les données tout au long du processus, permettant des opérations efficaces, le dépannage et la maintenance. De plus, l'unité offre un environnement de travail sûr, avec des fonctions de sécurité qui préviennent et surveillent la surchauffe accidentelle ou les coupures de courant. P5000 réacteur est bien adapté à une variété d'applications dans l'industrie des semi-conducteurs et est souvent utilisé dans les procédés de dépôt et de gravure. Il est capable de traiter des substrats aux hautes propriétés électriques, thermiques et optiques, ce qui le rend adapté à une gamme de matériaux comprenant des polymères, des céramiques, des métaux et des semi-conducteurs composés. En outre, le réacteur peut être utilisé pour un large éventail de procédés, tels que l'implantation ionique, le PECVD, la pulvérisation et diverses applications de gravure chimique. En conclusion, le réacteur APPLIED MATERIALS P5000 est un outil avancé, fiable et précis utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour améliorer les performances des procédés et permettre un contrôle plus précis. Il dispose d'une gamme de caractéristiques qui le rendent idéal pour une variété d'applications, offrant des résultats précis et reproductibles, une surveillance précise et un fonctionnement robuste dans un environnement de travail sûr. C'est le choix parfait pour le traitement de précision dans l'industrie des semi-conducteurs.
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