Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9392286 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur est un instrument de haute performance conçu pour aider les utilisateurs à établir des paramètres précis de dépôt métallique dans les secteurs de la microélectronique, du stockage de données et de l'optique. Le réacteur AMAT P-5000 assure un contrôle précis, uniforme et répétable du processus de dépôt. Il est équipé d'un équipement sous vide intégré permettant une excellente uniformité de température et des caractéristiques de couche. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 Le réacteur est équipé d'une source de dépôt de tension de polarisation alternative. Ceci permet d'alterner le substrat de dépôt entre charge négative et charge positive sur des cycles d'horloge successifs, ce qui permet d'obtenir une couverture de film uniforme et une granulométrie uniforme dans toute la couche. De plus, un gaz inerte est ajouté à la chambre de dépôt pour réduire le collage des particules et obtenir une plus grande cohérence de couverture en facilitant la répartition uniforme des particules. P-5000 Le contrôle de position avancé du réacteur permet un déplacement précis des plaquettes individuelles ou des substrats cibles par rapport aux sources. Ceci permet une répartition uniforme de la température sur la plaquette et contribue à assurer un dépôt de haute qualité sur l'ensemble de la plaquette. Le système est conçu avec un régulateur de débit massique et un contrôleur PID, fournissant un contrôle automatisé des dépôts et une régulation précise de la température. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 Le réacteur est conçu avec une option à faible budget thermique pour minimiser la contrainte thermique mise sur la plaquette lors du dépôt. Cela aide à réduire les déformations et autres dommages aux plaquettes. Par le biais de l'utilisation d'une unité de contrôle avancée, le Réacteur d'AMAT P5000 aide à automatiser et réduire la complexité du processus de déposition. P5000 Le réacteur peut être utilisé avec une grande variété de techniques de dépôt, y compris le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le dépôt physique en phase vapeur (PVD). Il est également équipé d'une machine de surveillance en temps réel qui permet l'analyse du processus de dépôt global, le suivi de la performance des outils et l'analyse des recettes de processus pour les différentes couches. Cela aide l'utilisateur à optimiser le fonctionnement, réduire les temps d'arrêt et améliorer le contrôle global du processus. En conclusion, le réacteur P 5000 est un instrument de haute performance avec un contrôle précis des procédés, donnant des procédés de dépôt uniformes et reproductibles. Ses systèmes de contrôle avancés aident à automatiser et à simplifier le processus de dépôt, tandis que ses capacités à faible budget thermique aident à réduire la contrainte thermique imposée aux plaquettes. Cela permet d'assurer un dépôt de haute qualité ainsi qu'une stabilité et une optimisation accrues des procédés.