Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9396227 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un type de réacteur à semi-conducteur en PVD (Physical Vapor Deposition). Il est conçu pour le traitement des semi-conducteurs, y compris la pulvérisation et le dépôt à la source. Ce type de réacteur est une chambre à vide qui sert à déposer des couches minces de matière sur des substrats. Le système se compose d'une chambre de procédé, d'une pompe à vide, d'un élément chauffant et d'un ordinateur de commande. La chambre de processus d'AMAT P-5000 est une structure métallique cylindrique enduite avec la matière d'isolation. Il a un diamètre intérieur de 250 mm et est équipé d'un aimant à bobine de procédé qui est utilisé pour ioniser le matériau pulvérisé et améliorer l'adhérence des films déposés. La chambre de procédé est chauffée à l'aide d'éléments chauffants en céramique et peut atteindre des températures allant jusqu'à 1000 ° C La pompe à vide permet d'évacuer la chambre à des pressions inférieures ou égales à 0,1 torr. Une fois la chambre évacuée, un gaz inerte, tel que l'argon, est utilisé pour créer un environnement propre et stable à l'intérieur de la chambre afin d'assurer un dépôt uniforme des films sur le substrat. Le gaz de procédé, typiquement l'oxygène, est également introduit dans la chambre pour aider à éliminer la contamination au carbone et améliorer l'homogénéité des films. L'ordinateur de contrôle est chargé de contrôler les paramètres du processus et de surveiller l'ensemble du système. Il permet un contrôle précis des paramètres tels que la puissance du procédé, la pression de la chambre, la température et le débit de gaz. Cela permet aux utilisateurs d'obtenir un contrôle précis sur les films désirés, y compris les films ciblés selon des spécifications très spécifiques. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est un réacteur efficace et performant. Il est capable d'atteindre des taux de dépôt élevés avec une excellente couverture et uniformité des étapes. Avec son contrôle précis des procédés et son environnement d'exploitation propre, il est un choix idéal pour une variété d'applications de pulvérisation et de dépôt à la source.