Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9399067 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur de production multi-chambres à faible volume conçu pour le traitement des semi-conducteurs. Il est capable de déposer, graver et nettoyer des couches de matériau sur une plaquette semi-conductrice avec une précision et une précision extrêmement fines. AMAT P-5000 se compose d'un certain nombre de chambres différentes, qui travaillent toutes ensemble pour atteindre le résultat souhaité. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est constitué d'une chambre de dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) renforcée par plasma, d'une chambre de procédé thermique rapide (RTP) et d'une chambre de gravure. Chacune de ces chambres contient les outils et composants nécessaires à la réalisation de leurs processus respectifs. La chambre PECVD crée des couches de matériau à l'aide d'un gaz plasma, qui est un gaz contenant de nombreuses particules et ions chargés. Ce gaz est excité par un champ électrique haute fréquence afin de le chauffer et de le décomposer en vapeur. Cette vapeur est ensuite introduite dans la chambre du réacteur sous vide où elle est utilisée pour déposer de la matière sur le substrat. La chambre RTP est utilisée pour le recuit thermique rapide, ou le chauffage et le refroidissement du substrat pour initier une réaction. Dans cette chambre, le substrat est chauffé puis immédiatement refroidi pour améliorer les films déposés par la chambre PECVD. La chambre de gravure est alors utilisée pour graver ou retirer du substrat du matériau indésirable. L'etcher utilise une combinaison de gaz, y compris un perfluorocarbone fluoré (FPC) et un gaz plasmagène, pour éliminer des couches de matériau indésirable. En plus des chambres, AMAT P5000 dispose également de systèmes de commande sophistiqués qui permettent à l'utilisateur de surveiller et d'ajuster les processus se déroulant dans les chambres. Cela inclut la capacité d'ajuster la température, la pression et le débit de gaz entre autres paramètres afin d'obtenir le résultat optimal. Globalement, le P 5000 est un réacteur très avancé et précis capable d'atteindre des niveaux de précision fins lors de la création et de la gravure de couches de matériau sur un substrat. Ses nombreuses commandes et chambres réglables se combinent pour fournir à l'utilisateur l'outil ultime pour le dépôt, la gravure et le nettoyage des plaquettes semi-conductrices.