Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9400331 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un type d'équipement d'implantation ionique conçu pour implanter des ions dopants dans des substrats ou d'autres matériaux. Ce procédé est utilisé pour modifier le comportement électrique d'un matériau semi-conducteur, principalement du silicium. AMAT P-5000 est un réacteur de type fractionné, avec une source d'ions encapsulée et un équipement accélérateur situé dans une enceinte séparée. Cette configuration permet de monter et de faire fonctionner la chambre d'implantation, qui contient le substrat, en milieu gazeux inerte. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 a des sources multiples, ce qui lui permet d'impliquer différents ions dans le substrat. Dans une configuration typique, un canon à ions à vide axial est utilisé pour implanter des ions bore, arsenic ou phosphore dans le substrat, avec un canon à ions planaire monté en bout utilisé pour implanter des ions gallium. L'énergie maximale d'implantation du dispositif est de 1000keV, avec un courant de faisceau de 200μA. En outre, la précision de la dose de P 5000 est d'environ 1 % avec une large gamme d'ajustements. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 est équipé d'un étage de substrat automatisé de réglage de hauteur, permettant de relever ou d'abaisser le substrat avant l'implantation. En outre, la hauteur et l'inclinaison de l'étage de substrat peuvent être contrôlées avec précision, et le dispositif comporte un système de chauffage avancé du faisceau pour réduire les risques d'instabilité d'implantation. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 comprend un certain nombre de dispositifs de sécurité pour assurer le fonctionnement sûr et sécurisé de l'équipement. Il s'agit notamment d'un obturateur de sécurité qui se ferme lorsque la pression dans la chambre d'implantation dépasse une certaine limite, ainsi que d'alarmes de pression et de température. De plus, tous les paramètres d'implantation sont automatiquement contrôlés et enregistrés au cours du processus d'implantation, permettant le fonctionnement à distance du réacteur. Dans l'ensemble, AMAT P 5000 est un réacteur d'implantation ionique puissant, polyvalent et sûr qui peut être utilisé pour modifier les propriétés électriques des matériaux semi-conducteurs. Ses différentes caractéristiques de sécurité, telles que l'obturateur de sécurité en cas de défaillance et la surveillance automatisée, garantissent un fonctionnement sûr et fiable. En outre, son étage de substrat réglable et son outil de chauffage des faisceaux améliorent encore sa fonctionnalité et ses performances.