Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9400379 à vendre en France

AMAT ou AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un type de réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) utilisé pour le dépôt de couches minces, constitué d'une chambre chauffée, avec une fenêtre en quartz et un ensemble tête de douche. Le procédé CVD dans cet équipement génère une réaction chimique entre deux produits chimiques gazeux, qui créent un film mince sur le substrat. AMAT P-5000 est conçu pour un débit et une productivité élevés dans un système automatisé et convivial, ce qui en fait un choix idéal pour une utilisation en production. Le réacteur est alimenté par une unité turbo-pompée, qui offre une combinaison polyvalente de basse pression, de vitesses de pompage élevées et de flux gazeux élevés. Ceci permet des taux de dépôt plus élevés et un meilleur rendement pour diverses applications en couches minces. Le réacteur se compose d'une chambre à vide principale, d'une fenêtre en quartz et d'une boîte chauffante. La chambre à vide est construite en acier inoxydable, avec plusieurs formes d'isolation autour des parois de la chambre. Les parois sont fixées les unes aux autres à l'aide de soudures hermétiquement scellées afin de réduire la perte de chaleur et d'assurer une bonne étanchéité de l'environnement. La chambre est équipée d'une turbomachine qui permet de maintenir une basse pression dans la chambre et de créer l'environnement optimal pour le dépôt de couches minces. La fenêtre en quartz du réacteur est conçue pour permettre une entrée régulière de gaz et une température uniforme à travers la surface du substrat. La fenêtre à quartz est également utilisée pour protéger les substrats des contaminants de la température et des particules, en gardant la surface du substrat propre et exempte de contamination. La boîte chauffante est utilisée pour maintenir la température constante à l'intérieur de la chambre. La température est régulée soit manuellement, soit par l'intermédiaire d'un module de commande informatique. Le chauffage est généralement composé de deux éléments dont l'un est un élément chauffant et l'autre est une grille de capteurs. En outre, les MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 comprennent un bras de tête de douche pour maintenir facilement le substrat en place lors du dépôt de couches minces. La tête de douche est utilisée pour assurer une répartition homogène des produits chimiques gazeux sur le substrat. Il améliore également l'homogénéité des couches minces en répartissant uniformément le flux gazeux en motifs circulaires paires sur le substrat. Tous ces composants se combinent pour créer APPLIED MATERIALS P5000, un réacteur révolutionnaire pour le dépôt de couches minces. L'outil fournit aux utilisateurs une plate-forme fiable et automatisée pour atteindre un débit de dépôt élevé pour les substrats petits et grands. Sa conception polyvalente en fait également un bon choix pour les environnements de production et de recherche. Avec AMAT P5000, APPLIED MATERIALS établit la norme pour la prochaine génération de systèmes de dépôt en couches minces.