Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9402081 à vendre en France

ID: 9402081
Taille de la plaquette: 6"
CVD System, 6" Robots: Phase-III Standard O-Rings 8-Slots elevator (2) CRT Monitors AC Rack: 1 Shrink Heat exchanger PROTEUS Water flow sensor Flexible water hose Status light tower (Color / Position): Red, yellow, green, blue Signal cable: 25" Hard Disk Drive (HDD) Floppy Disk Drive (FDD), 3.5" Mini-controller RF Generator: (2) ENI OEM12B-02 ENI OEM12B-07 Chamber: Chamber position: A, B, C, D Chamber type: DLH 1-Hole Process: SiH4 Oxide Heater type: Lamp Susceptor type: AL, 6" (4) Matchers Delta nitride dual spring throttle valve Delta nitride isolation valve Gas panel: 20 Standard channels Gas supply: Top down MFC: SEC 4400MC Manual valve: FUJIKIN Pneumatic 2-Way valve: FUJIKIN MKS 122B Baratron gauge, 10 Torr Gases: Gas / Range N2 / 3 SLM SiH4 / 100 SCCM CF4 / 2 SLM N2O / 2 SLM.
Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un type de chambre de dépôt utilisé dans la fabrication de dispositifs microélectroniques. C'est une chambre à vide qui sert à déposer des couches minces de divers matériaux sur un substrat. Ce réacteur est capable de déposer à la fois des films monocouches et multicouches avec un contrôle précis de leurs propriétés physiques et chimiques. La chambre de ce réacteur est de forme cylindrique à base conique. Il est fabriqué en acier inoxydable, en titane et en matériaux composites. La chambre est évacuée à l'aide d'une pompe à vide turbomoléculaire, fournissant un environnement basse pression adapté au dépôt de couches minces. La chambre contient un creuset en silicium Si qui est chauffé par un faisceau d'électrons. Le faisceau d'électrons assure un contrôle précis de la température dans la chambre, permettant un contrôle précis des paramètres de dépôt. Ce réacteur est également équipé d'un régulateur de débit massique de procédé qui assure un contrôle précis des débits de matière dans la chambre. Ceci permet le dépôt de différentes couches d'épaisseurs différentes. En outre, le réacteur est équipé d'un système de distribution de gaz d'ultra-haute pureté qui est utilisé pour fournir les gaz réactifs appropriés pour les processus de dépôt. Le réacteur est équipé d'un loadlock qui est un mécanisme permettant le chargement et le déchargement des échantillons selon les besoins. Cela permet de monter et de déplacer les échantillons dans un environnement contrôlé, réduisant ainsi la contamination. Le réacteur AMAT P-5000 est très efficace et offre un environnement de haute qualité pour le dépôt de couches minces. Son contrôle précis des paramètres du procédé et ses capacités de chargement/déchargement efficaces en font l'une des chambres de dépôt les plus populaires disponibles. Il est adapté à un large éventail d'applications dans la fabrication de microélectroniques, et peut facilement être intégré dans les lignes de production existantes.
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