Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9402081 à vendre en France
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ID: 9402081
Taille de la plaquette: 6"
CVD System, 6"
Robots: Phase-III
Standard O-Rings
8-Slots elevator
(2) CRT Monitors
AC Rack: 1 Shrink
Heat exchanger
PROTEUS Water flow sensor
Flexible water hose
Status light tower (Color / Position): Red, yellow, green, blue
Signal cable: 25"
Hard Disk Drive (HDD)
Floppy Disk Drive (FDD), 3.5"
Mini-controller
RF Generator:
(2) ENI OEM12B-02
ENI OEM12B-07
Chamber:
Chamber position: A, B, C, D
Chamber type: DLH 1-Hole
Process: SiH4 Oxide
Heater type: Lamp
Susceptor type: AL, 6"
(4) Matchers
Delta nitride dual spring throttle valve
Delta nitride isolation valve
Gas panel: 20 Standard channels
Gas supply: Top down
MFC: SEC 4400MC
Manual valve: FUJIKIN
Pneumatic 2-Way valve: FUJIKIN
MKS 122B Baratron gauge, 10 Torr
Gases:
Gas / Range
N2 / 3 SLM
SiH4 / 100 SCCM
CF4 / 2 SLM
N2O / 2 SLM.
Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un type de chambre de dépôt utilisé dans la fabrication de dispositifs microélectroniques. C'est une chambre à vide qui sert à déposer des couches minces de divers matériaux sur un substrat. Ce réacteur est capable de déposer à la fois des films monocouches et multicouches avec un contrôle précis de leurs propriétés physiques et chimiques. La chambre de ce réacteur est de forme cylindrique à base conique. Il est fabriqué en acier inoxydable, en titane et en matériaux composites. La chambre est évacuée à l'aide d'une pompe à vide turbomoléculaire, fournissant un environnement basse pression adapté au dépôt de couches minces. La chambre contient un creuset en silicium Si qui est chauffé par un faisceau d'électrons. Le faisceau d'électrons assure un contrôle précis de la température dans la chambre, permettant un contrôle précis des paramètres de dépôt. Ce réacteur est également équipé d'un régulateur de débit massique de procédé qui assure un contrôle précis des débits de matière dans la chambre. Ceci permet le dépôt de différentes couches d'épaisseurs différentes. En outre, le réacteur est équipé d'un système de distribution de gaz d'ultra-haute pureté qui est utilisé pour fournir les gaz réactifs appropriés pour les processus de dépôt. Le réacteur est équipé d'un loadlock qui est un mécanisme permettant le chargement et le déchargement des échantillons selon les besoins. Cela permet de monter et de déplacer les échantillons dans un environnement contrôlé, réduisant ainsi la contamination. Le réacteur AMAT P-5000 est très efficace et offre un environnement de haute qualité pour le dépôt de couches minces. Son contrôle précis des paramètres du procédé et ses capacités de chargement/déchargement efficaces en font l'une des chambres de dépôt les plus populaires disponibles. Il est adapté à un large éventail d'applications dans la fabrication de microélectroniques, et peut facilement être intégré dans les lignes de production existantes.
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