Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9402168 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur est un outil de production avancé à haut débit conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il offre une plate-forme peu coûteuse pour la fabrication de dispositifs à base de silicium et autres dispositifs semi-conducteurs. AMAT P-5000 est un équipement thermique monobloc qui utilise de nombreuses nouvelles technologies pour fournir une uniformité, un débit et une fiabilité supérieurs. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est principalement utilisé pour déposer et modeler des films sur des plaquettes sous la forme d'un « masque » lithographique. Ce masque contient souvent des caractéristiques telles que des formes de caractéristiques, des lignes de circuits et d'autres fonctions telles que des plots de contact, des vias et des interconnexions. Ce masque est créé pour réaliser sur la plaquette des caractéristiques qui peuvent ensuite être utilisées pour créer ou renforcer des connexions électriques ou former des motifs désirés. La conception du P5000Reactor comprend une capacité de purge automatique de l'azote et de l'argon, un système de contrôle intelligent et un logiciel de développement de recettes de processus de premier plan. Toutes ces fonctions visent à assurer une homogénéité, un débit et une fiabilité supérieurs pour AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000. La capacité automatisée de purge de l'azote et de l'argon réduit la contamination par les particules, assurant un excellent contrôle de la stoechiométrie et de l'uniformité des films. L'unité de contrôle intelligente optimise les conditions de processus pour chacune des recettes de processus disponibles. Le logiciel intégré de développement de recettes fournit des recettes éprouvées et optimisées pour la mise en place rapide de nouvelles tâches, permettant aux clients de maximiser la production d'usine. LES MATÉRIAUX APPLIQUÉS P-5000 offrent également une uniformité de température sans précédent dans la chambre de dépôt. La machine de régulation de température à trois zones permet des distributions de température égales sur la plaquette, ce qui permet d'améliorer le contrôle du processus et la qualité de la plaquette. En outre, AMAT P 5000 dispose d'un excellent débit, avec la capacité de traiter jusqu'à 80 plaquettes par heure. En général, AMAT P5000 est un réacteur avancé spécifiquement conçu à la fabrication d'appareil de semi-conducteur. Il est équipé d'une gamme de caractéristiques qui permettent une homogénéité, un débit et une fiabilité supérieurs, favorisant la tendance à l'augmentation de l'efficacité et de la productivité dans les processus de fabrication des dispositifs semi-conducteurs.