Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9402494 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur polyvalent, fiable et avancé utilisé dans une variété de procédés industriels. AMAT P-5000 est conçu pour être utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, la nanotechnologie et d'autres applications avancées de matériaux. Il s'agit d'un réacteur à chambre sous vide avancé de type « aérobie » de 850mm (abrégé : Aer-850M). MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le P 5000 est un procédé monobloc avec des technologies avancées en PVD et en couches minces complexes. Il fournit un processus basé sur des dimensions et des paramètres uniques pour les composés métalliques avancés, qui sont la clé des applications ultra-haute performance. Le volume de la chambre de P5000 est de 650 litres et son débit de gaz de procédé est jusqu'à 800SLM. Il assure une gestion thermique jusqu'à 800C, permettant à l'utilisateur de traiter de hautes à basses températures avec une grande cohérence, répétabilité et flexibilité. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P-5000 permet également de contrôler diverses options atmosphériques telles que O2, N2, H2 et Ar, ainsi que plusieurs réactifs. En outre, il offre de multiples fonctionnalités évoluées programmables en température, fournissant le profil de température parfait pour une large gamme de matériaux et étapes de dépôt. APPLIED MATERIALS P5000 a une conception à haut débit, une configuration de ventilateur à cadre ouvert et un système d'automatisation intégré qui tire pleinement parti de sa flexibilité en tant qu'outil de processus. Sa conception modulaire permet de remplacer et de mettre à niveau un certain nombre de composants et de fonctionnalités, y compris le système de commande et le système de refroidissement. Cela permet aux utilisateurs d'adapter l'appareil à leurs propres besoins. En outre, AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est conçu avec quelques fonctionnalités supplémentaires qui en font un excellent choix pour les applications avancées de matériaux. Pour commencer, il a une empreinte petite et compacte, ce qui aide l'utilisateur à économiser sur l'espace au sol. De plus, P-5000 a une conception d'alignement des plaquettes à quatre points qui réduit la contamination des sources et améliore l'uniformité des processus. En outre, il dispose d'une interface tactile intuitive pour un contrôle et une surveillance faciles de tous les paramètres du processus. Toutes ces caractéristiques font d'AMAT P5000 un réacteur avancé, fiable et flexible pour la création de matériaux avancés. Il est idéal pour des applications telles que les films haute performance, diélectrique, semi-conducteur et nanotechnologie. AMAT/APPLIED MATERIALS La capacité d'AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 à contrôler les processus à haute et basse température, fournit un traitement précis et reproductible qui aboutit à des matériaux finaux de la plus haute qualité.