Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9407851 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur de gravure à plasma est un appareil de gravure à haute pression atmosphérique conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ce réacteur dispose d'un large éventail de capacités de processus, y compris la gravure de précision, la fixation de haute résolution et le dopage précis de petites structures complexes de substrat. AMAT P-5000 est capable d'exécuter profondément la gravure à l'eau forte et la gravure à l'eau forte d'anisotropic aussi bien que l'isolation le dopage modelant et précis, en le rendant un outil idéal pour une variété de haute performance les applications électroniques, telles que les circuits d'ULSI et les appareils de semi-conducteur composés. LES MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 utilise une source de plasma micro-ondes à résonance cyclotron électronique (ECR) pour obtenir des radicaux et des ions afin de graver et de doper efficacement les matériaux semi-conducteurs. Cette source ECR fonctionne à 13,56 MHz, fournissant aux MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 un environnement plasma très stable et précis. De ce fait, le P 5000 est capable de graver des caractéristiques de rapport d'aspect élevé, utiles pour réaliser de petites fonctionnalités pour des dispositifs à haute résolution. En outre, P5000 présente également une haute sélectivité de gravure, ce qui signifie que différents matériaux peuvent être gravés sélectivement sans endommager les couches sous-jacentes. P-5000 dispose d'un système d'exploitation convivial, piloté par le menu, qui permet un fonctionnement rapide et facile. Il dispose également d'un réglage automatique, rendant le fonctionnement encore plus facile et permettant aux utilisateurs de changer rapidement entre différentes recettes de gravure et étapes de processus. En outre, AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 est équipé d'une unité de contrôle informatique embarquée, permettant son interconnexion avec d'autres équipements du même type. Cette machine de contrôle informatique permet également à l'utilisateur de contrôler précisément les paramètres du processus, assurant des résultats plus cohérents. AMAT P5000 est capable de manipuler des substrats avec une large gamme de dimensions. Il est compatible avec des substrats jusqu'à 8 po de diamètre, ce qui le rend adapté à la gravure de haute résolution au niveau de la production. L'outil est enfermé dans un environnement contrôlé par la température et l'humidité, assurant la stabilité de la température et du gaz pendant le processus. Dans l'ensemble, AMAT P 5000 est un actif avancé de gravure plasma, capable d'effectuer une gravure et un dopage précis et précis des matériaux semi-conducteurs. Avec son large éventail de capacités de processus et son modèle de fonctionnement convivial, APPLIED MATERIALS P-5000 offre un moyen fiable et efficace de gravure de circuits et d'appareils à haute résolution.