Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9408602 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur PECVD haut de gamme conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés. L'équipement utilise une architecture très fiable, compacte et modulaire pour fournir une performance optimale du système. AMAT P-5000 dispose d'une SiH2Cl2 chambre de traitement CVD à pression atmosphérique avec une tête de douche étendue pour assurer l'uniformité sur toute la surface de la plaquette et améliorer la précision, la répétabilité et le débit. Les sources de plasma à double impulsion intégrées dans la chambre de processus assurent une activation rapide de la surface de la plaquette et une architecture modulaire et des composants matériels robustes, assurant la compatibilité et la fiabilité à long terme. MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'unité automatisée de chargement, de manutention et de bras robotique de la plaquette P 5000 offre un temps de cycle exceptionnellement bas tout en conservant une précision et une répétabilité maximales. Il a la capacité de traiter tous les types de substrats tels que le silicium, le nitrure et l'aluminium, permettant une flexibilité d'application et l'adaptabilité à divers défis de processus. La machine intègre des outils d'analyse avancés tels que l'analyse DVD et SEM, ainsi que l'automatisation des recettes et la technologie de simulation pour stimuler l'amélioration des processus. P 5000 soutient également l'intégration complète avec l'environnement de fabrication existant pour un contrôle efficace et le transfert de données. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 a été conçu pour offrir des performances et un rendement supérieurs dans le traitement des semi-conducteurs. Il offre une grande fiabilité, uniformité et précision, ainsi qu'un débit et une maniabilité exceptionnels, ce qui en fait un choix privilégié pour la fabrication avancée de dispositifs semi-conducteurs.