Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9408603 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) à plaques parallèles, à double tranche. Il est conçu pour fournir un traitement fiable de films minces de haute qualité utilisés dans les applications de fabrication de semi-conducteurs. AMAT P-5000 est une chambre PECVD qui utilise l'avantage de chimie de plasma de gaufrette-rf double pour fournir la disposition de film supérieure par de plus hauts taux de déposition et l'uniformité de couche supérieure. Il s'agit d'un outil performant capable de développer divers films, notamment des films diélectriques, gravures et barrières. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le P 5000 a une large surface de conception de plaques parallèles qui permet un accès illimité aux plaquettes et dispose d'une grande fenêtre de fonctionnement pour les films minces de toutes tailles. La conception innovante du bouclier plasma élimine également le besoin de protection mécanique contre le shunt. Le réacteur est équipé avec une serrure de charge simple qui tient compte du transfert facile de gaufrettes du stockage ou d'autres outils au MATÉRIEL APPLIQUÉ P5000. La serrure de charge, la chambre et les supports de substrat sont tous intégrés dans le réacteur, ce qui permet un processus plus uniforme et plus fiable. Les porte-plaquettes sont conçus pour minimiser le nombre de cycles de processus pour la chambre et assurer une distribution de plasma uniforme dans la chambre. APPLIED MATERIALS P-5000 est équipé d'un puissant générateur RF qui produit jusqu'à 5000 watts d'énergie RF. Cette énergie RF est utilisée pour créer un plasma qui active les précurseurs de gaz afin de réaliser des films haute densité sur des plaquettes. Le réacteur est également livré avec une série de recettes de procédé et divers contrôleurs qui fournissent un processus de dépôt plasma cohérent et répétable. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est petit et compact, ce qui le rend facile à installer et à utiliser. Il est également équipé de plusieurs systèmes d'alarme et de surveillance des processus qui aident à s'assurer que le processus fonctionne correctement et à éviter les dysfonctionnements inattendus. AMAT P5000 est idéal pour les films minces de haute qualité et de haute précision, offrant une excellente uniformité de film et un rendement amélioré. Il a un débit élevé qui permet des temps de traitement courts et est également capable de traiter des processus à haute température. La conception et les caractéristiques de l'AMAT P 5000 en font un outil idéal pour les fabricants de semi-conducteurs ayant besoin de films minces de haute performance.