Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9409079 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9409079
PECVD System.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un outil de haute performance qui est utilisé pour la croissance de couches minces sur des substrats semi-conducteurs. Il s'agit d'un réacteur à plasma à arc court, à basse pression, capable de délivrer des dépôts de haute pureté. AMAT P-5000 est un deux système de stade, en se composant d'une source de plasma et un ultrahaut vide braille la chambre. Au début de l'expérience de dépôt, les échantillons de verre sont placés à l'intérieur de la chambre, qui est ensuite scellée et évacuée à une pression de 1 x 10-6 mBar ou inférieure. La source est alors activée et un plasma est formé entre deux électrodes dans la cuve de la source. Un flux du précurseur de dépôt choisi est alors introduit dans le plasma, et les fragments de molécules d'espèces énergétiques qui sont libérés par le plasma bombardent le substrat et les surfaces d'échantillons. Le plasma utilisé dans les matériaux appliqués P 5000 est un mélange argon/hydrogène, et les températures du substrat peuvent aller de 200 ° C à 800 ° C La conception de la chambre facilite le dépôt uniforme dans tout l'échantillon. Une fois le dépôt du film terminé, la chambre est éventée et les échantillons sont prélevés. Le matériau appliqué P-5000 est idéal pour le dépôt de matériaux diélectriques avancés, adapté à la fabrication de composants dans l'industrie des circuits intégrés semi-conducteurs. Plusieurs paramètres peuvent être variés pour optimiser le profil de dépôt, tels que la température et le mélange gazeux, ainsi que la vitesse de dépôt et l'épaisseur du film. L'instrument est précis et répétable, permettant des résultats répétables sur plusieurs séries de dépôts. Dans l'ensemble, le réacteur basse pression AMAT P5000 est un dispositif fiable et flexible qui permet de déposer des couches minces de haute qualité sur des substrats semi-conducteurs, avec un excellent contrôle de la température. Sa grande uniformité et son profil de dépôt précis offrent des résultats fiables et cohérents. L'appareil est idéal pour des applications de recherche ainsi que pour un large éventail d'exigences de fabrication.
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