Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9409373 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 High Aspect Ratio Etch Equipment est un réacteur fiable et polyvalent idéal pour les applications de gravure de plaquettes nécessitant une gravure à haut ratio d'aspect (HAR). Ce système polyvalent peut être utilisé pour diverses applications telles que la gravure d'oxyde et de poly-silicium. Il est capable de gravure humide et sèche dans un procédé de gravure RIE (Reactive Ion Etching) ou ICP (Inductively Coupled Plasma). AMAT P-5000 dispose d'une interface utilisateur intuitive et facile à utiliser avec un écran tactile de 7 pouces offrant une facilité de fonctionnement, un contrôle précis des processus et une journalisation des données des paramètres du processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le P 5000 utilise deux chambres de procédé et est équipé d'une série de modules pour les deux types de chambres, y compris les serrures de charge, le chauffage et le refroidissement du substrat, et une conception révolutionnaire de chambre qui diminue le gradient thermique sur le plan de la plaquette. La chambre de gravure a à la fois planaire et cylindrique capacité de mandrin électrostatique, permettant une uniformité supérieure sur toute la surface de gravure. La chambre dispose également d'une unité de perte d'OTE faible qui minimise l'accumulation de débris tout en maximisant le débit de la plaquette. La chambre dispose également d'un contrôleur d'optimisation du temps d'obturation qui permet un contrôle fin des paramètres de gravure plasma. AMAT P 5000 dispose également d'une machine de distribution de gaz très efficace et d'une boîte à gaz à haute concentration nouvellement conçue avec un outil de contrôle de débit avancé, permettant à l'utilisateur de contrôler avec précision les gaz de procédé. La fonctionnalité High Stable Gas Arc (HSGA) conduit à un processus de gravure plus cohérent en minimisant les variations d'arc. Le module de régulation de température avancé assure une homogénéité thermique précise sur le plan de la plaquette avec une précision ± 2 degrés Celsius. La fonction d'isolation de l'AMAT P5000 est conçue pour éviter la possibilité d'endommager la plaquette par des particules ionisantes inversées, en veillant à ce que la plaquette soit correctement protégée des conditions difficiles de l'environnement de la gravure. L'actif comprend également un éditeur de recettes avancé qui permet à l'utilisateur de définir et stocker jusqu'à 250 recettes pour répondre aux différentes exigences de gravure pour une variété d'applications. P 5000 High Aspect Ratio Etch Model est un choix idéal pour la fabrication de semi-conducteurs et les applications de gravure de plaquettes qui nécessitent une gravure de haut aspect cohérente. Il offre un maximum de contrôle des processus et de fiabilité, tout en fournissant une solution rentable pour les applications de gravure.