Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000W #9132649 à vendre en France
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ID: 9132649
Style Vintage: 1992
LPCVD system
(3) Chambers
Process: W-PLUG
1992 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000W est un réacteur de gravure à plasma. Il a la capacité de graver des fonctionnalités de dispositifs avancés dans une variété de matériaux de processus. AMAT P5000W est un outil polyvalent avec un chargeur/déchargeur inerte, offrant une large gamme de flexibilité de processus. APPLIED MATERIALS P5000W a été conçu pour être un outil rentable mais durable pour les besoins de processus les plus exigeants. Il est équipé d'une configuration de polarisation haute ohm et basse surface permettant un contrôle précis et des performances de processus répétables. La chambre de process dispose d'une plate-forme réglable pour accueillir des substrats jusqu'à 8 pouces en longueur et en largeur. Il dispose également de deux boîtes à gaz contenant quatre RF, trois micro-ondes et vingt gaz disponibles en maille. P5000W prend en charge jusqu'à quatre outils de traitement de gravure indépendants, à la fois des applications monobloc et double-wafer, avec trois cages Faraday source pour améliorer le contrôle des processus et la protection thermique. La chambre de procédés sur réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000W est également équipée de plusieurs caractéristiques environnementales et de sécurité pour garantir des performances de qualité. Il s'agit notamment d'une paire de joints à soufflet, d'anneaux de protection à pression et de murs de douche. Il dispose d'un système complet de régulation de température avec une boucle de commande proportionnelle-intégrale-dérivée (PID) et des contacts de sécurité de base pour la boîte RF et la plaquette de base. Il dispose également d'un système d'autodiagnostic et d'autodiagnostic des valeurs réglables par l'utilisateur qui surveille la pression, la température et la consommation de plasma. AMAT P5000W a une alimentation électrique de fréquence moyenne qui permet aux ions réactifs d'être fournis à un haut niveau de précision et d'intégrité. L'alimentation est capable de jusqu'à 25MHz de fréquence hyperfréquence et jusqu'à 2000W de puissance RF, avec des réglages réglables pour des processus de gravure rapides. Il est également équipé d'un ensemble de capteurs qui contrôlent la pression, la température et la consommation de plasma pour une performance optimale. Avec son haut niveau de fiabilité et de performance, APPLIED MATERIALS P5000W est un choix idéal pour une variété de processus de gravure et de dépôt. Cet outil est conçu pour répondre aux exigences des petites et grandes séries de production, avec une capacité de jusqu'à huit séries de processus de wafer. Il est facile à entretenir et offre une répétabilité et une précision efficaces pour tous les types de processus de gravure et de dépôt.
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