Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000W #9254064 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000W, également connu sous le nom d'équipement de dépôt chimique en phase vapeur à l'aéroport, est un outil polyvalent et fiable conçu pour des procédés semi-conducteurs avancés dans un ensemble de lots ou de grappes. Il est utilisé pour déposer des couches de matériau ultra-minces sur des plaquettes de silicium afin de fabriquer des structures complexes utilisées dans la production de circuits intégrés. AMAT P5000W est un équipement très efficace qui offre une répétabilité et une fiabilité supérieures. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000W dispose d'un loadlocks automatisé en une étape qui permet de placer les plaquettes directement dans la chambre de réaction. Cela élimine le besoin de transferts de plaquettes et accélère le temps du cycle de processus. Le volume de la chambre est d'environ 70 litres et la plage de température de fonctionnement est comprise entre - 5˚C et +450˚C. La conception polyvalente permet d'utiliser le système pour divers procédés, y compris le dépôt monocouche et multicouche de structures pelliculaires. P5000W a été conçu avec un robot de base PC et un environnement de contrôle complet des processus. Il est équipé d'une unité de rétroaction en temps réel unique qui surveille les résultats du processus. En outre, AMAT/APPLIED MATERIALS P5000W est optimisé pour le fonctionnement à basse température, ce qui le rend idéal pour les recettes de processus complexes. La machine de contrôle avancée offre un contrôle statistique complet, un diagnostic rapide, un réglage optimal et des capacités de contrôle chimique de recherche précises. AMAT P5000W possède une technologie Turbo Source qui permet de déposer avec précision des couches d'épaisseurs variables. Ceci permet de déposer des films extrêmement homogènes, ce qui conduit à une meilleure homogénéité de la coupe transversale et à une reproductibilité avantageuse. APPLIED MATERIALS P5000W dispose également d'une station d'étalonnage triple substrat, conçue pour permettre des épaisseurs de substrat précises et reproductibles. P5000W réacteur est un outil puissant et fiable conçu pour les procédés avancés de dépôt de semi-conducteurs. Sa gamme de fonctionnalités, y compris les loadlocks automatisés en une étape, le robot PC-base et l'environnement de contrôle des processus, la technologie Turbo Source, et la station d'étalonnage triple substrat, lui confèrent une répétabilité et une fiabilité supérieures pour un coût de possession optimal.